Graphit-Substrat-Waferhalter für PECVD

Kurzbeschreibung:

Der Graphit-Substrathalter von VET Energy wurde entwickelt, um die Waferausrichtung und -stabilität während des gesamten PECVD-Prozesses zu gewährleisten, Verunreinigungen zu vermeiden und das Beschädigungsrisiko zu minimieren. Der Graphit-Waferhalter bietet eine sichere und ebene Plattform und sorgt so für eine gleichmäßige Belichtung der Wafer mit dem Plasma, was eine konsistente und hochwertige Abscheidung ermöglicht. Dank seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und außergewöhnlichen Festigkeit trägt dieser Halter zur Verbesserung der Gesamtprozesseffizienz und der Produktleistung bei.

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Produktdetails

Produkt-Tags

Der VET Energy Graphit-Substrat-Waferhalter ist ein Präzisionsträger für das PECVD-Verfahren (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Dieser hochwertige Graphit-Substrathalter besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphit und zeichnet sich durch hervorragende Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Dimensionsstabilität aus. Er bietet eine stabile Trägerplattform für den PECVD-Prozess und gewährleistet die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Schichtabscheidung.

Der Graphitwafer-Trägertisch des VET Energy PECVD-Prozesses weist folgende Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:extrem niedriger Verunreinigungsgehalt, Vermeidung von Filmverunreinigungen, Sicherstellung der Filmqualität.

▪Hohe Dichte:hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, beständig gegen hohe Temperaturen und hohen Druck in der PECVD-Umgebung.

▪Gute Dimensionsstabilität:Geringe Dimensionsänderung bei hohen Temperaturen, wodurch die Prozessstabilität gewährleistet wird.

▪Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit:effektive Wärmeübertragung zur Verhinderung einer Überhitzung des Wafers.

▪Hohe Korrosionsbeständigkeit:kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasmen widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Trägertische in verschiedenen Größen und Formen können individuell an die Kundenbedürfnisse angepasst werden.

Produktvorteile

▪Filmqualität verbessern:Gewährleisten Sie eine gleichmäßige Filmbeschichtung und verbessern Sie die Filmqualität.

▪Lebensdauer der Geräte verlängern:Ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit, verlängert die Lebensdauer von PECVD-Anlagen.

▪Produktionskosten senken:Hochwertige Graphitschalen können die Ausschussquote senken und die Produktionskosten reduzieren.

Graphitmaterial von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfstandard	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Wärmeausdehnung (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großformatiger G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign steigert den Durchsatz deutlich und ermöglicht so höhere Ausbeuten und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummer Waferträger
PEVCD Grephite Boot - Die 156er Serie	156-13 Grephitenboot	144
	156-19 Grephitenboot	216
	156-21 Grephitenboot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Die 125er Serie	125-15 Grephite Boot	196
	125-19 Grephitenboot	252
	125-21 Graphitboot	280