Graphitsubstrat-Waferhalter für PECVD

Kurzbeschreibung:

Der Graphitsubstrathalter von VET Energy wurde entwickelt, um die Waferausrichtung und -stabilität während des gesamten PECVD-Prozesses aufrechtzuerhalten, Kontaminationen zu verhindern und das Risiko von Schäden zu minimieren. Der Graphit-Wafer-Halter bietet eine sichere, ebene Plattform und stellt sicher, dass die Wafer gleichmäßig dem Plasma ausgesetzt sind, um eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Abscheidung zu gewährleisten. Mit seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und außergewöhnlichen Festigkeit trägt dieser Halter zur Verbesserung der Gesamtprozesseffizienz und Produktleistung bei.

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Produktdetails

Produkt-Tags

Der VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder ist ein Präzisionsträger, der für den PECVD-Prozess (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) entwickelt wurde. Dieser hochwertige Graphitsubstrathalter besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphitmaterial mit ausgezeichneter Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und anderen Eigenschaften. Es kann eine stabile Stützplattform für den PECVD-Prozess bieten und die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Filmabscheidung gewährleisten.

Der VET Energy PECVD-Prozess-Graphitwafer-Auflagetisch weist die folgenden Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:Extrem geringer Verunreinigungsgehalt, Vermeidung von Filmverunreinigungen, Sicherstellung der Filmqualität.

▪Hohe Dichte:Hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, hält PECVD-Umgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck stand.

▪Gute Dimensionsstabilität:geringe Dimensionsänderung bei hoher Temperatur, wodurch Prozessstabilität gewährleistet wird.

▪Hervorragende Wärmeleitfähigkeit:Übertragen Sie effektiv Wärme, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.

▪Starke Korrosionsbeständigkeit:kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Auflagetische in verschiedenen Größen und Formen können je nach Kundenwunsch individuell angepasst werden.

Produktvorteile

▪Filmqualität verbessern:Sorgen Sie für eine gleichmäßige Filmabscheidung und verbessern Sie die Filmqualität.

▪Verlängern Sie die Lebensdauer Ihrer Ausrüstung:Hervorragende Korrosionsbeständigkeit, verlängert die Lebensdauer von PECVD-Geräten.

▪Produktionskosten senken:Hochwertige Graphitwannen können die Ausschussrate reduzieren und die Produktionskosten senken.

Graphitmaterial von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfstandard	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Wärmeausdehnung (20-200℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die hocheffiziente Herstellung von Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großer G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign erhöht den Durchsatz erheblich und ermöglicht höhere Ausbeuten und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummernwaferträger
PEVCD-Grephite-Boot – Die 156er-Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephitboot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD-Grephite-Boot – Die 125er-Serie	125-15 Grephiteboot	196
	125-19 Grephiteboot	252
	125-21 Graphitboot	280