PECVD-Graphitwafer-Träger

Abbildung einer PECVD-Graphitwafer-Unterstützung

Kurzbeschreibung:

Die Graphit-Waferunterlage von VET Energy wurde für höchste Präzision und Leistung entwickelt und ist das ideale Material für die moderne Waferbearbeitung, wo hohe thermische Stabilität und gleichbleibende Leistung entscheidend sind. Ob Sie mit Halbleiterwafern oder anderen empfindlichen Substraten arbeiten – diese hochwertige Graphitunterlage verbessert die Zuverlässigkeit Ihrer Prozesse und die Produktqualität und ist somit eine unverzichtbare Komponente für die moderne Fertigung.

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Produktdetails

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Die Graphit-Wafer-Unterlage von VET Energy ist ein zentrales Verbrauchsmaterial für das PECVD-Verfahren (plasmaverstärkte chemische Gasphasenabscheidung). Sie besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphit und zeichnet sich durch hervorragende Temperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Dimensionsstabilität aus. Die Unterlage bietet eine stabile Trägerplattform für das PECVD-Verfahren und gewährleistet so die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Schichtabscheidung.

Die „Graphit-Trägerkonstruktion“ der VET Energy Graphit-Waferhalterung ermöglicht nicht nur eine effektive Unterstützung des Wafers, sondern bietet auch thermische Stabilität in der Hochtemperatur- und Hochdruckumgebung des PECVD-Prozesses, um die Stabilität des Prozesses zu gewährleisten.

Der Graphitwaferträger des VET Energy PECVD-Verfahrens weist folgende Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:extrem niedriger Verunreinigungsgehalt, Vermeidung von Verunreinigungen des Films, um die Qualität des Films zu gewährleisten.

▪Hohe Dichte:hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, beständig gegen hohe Temperaturen und hohen Druck in der PECVD-Umgebung.

▪Gute Dimensionsstabilität:Geringfügige Dimensionsänderungen bei hohen Temperaturen gewährleisten die Stabilität des Prozesses.

▪Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit:effektive Wärmeübertragung zur Verhinderung einer Überhitzung des Wafers.

▪Hohe Korrosionsbeständigkeit:Fähigkeit, der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasmen zu widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Trägertische in verschiedenen Größen und Formen können individuell an die Kundenbedürfnisse angepasst werden.

Graphitmaterial von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfstandard	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5 × 10³	MPa
Wärmeausdehnung (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die Herstellung hocheffizienter Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großformatiger G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign steigert den Durchsatz deutlich und ermöglicht so höhere Ausbeuten und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummer Waferträger
PEVCD Grephite Boot - Die 156er Serie	156-13 Grephitenboot	144
	156-19 Grephitenboot	216
	156-21 Grephitenboot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD Grephite Boot - Die 125er Serie	125-15 Grephite Boot	196
	125-19 Grephitenboot	252
	125-21 Graphitboot	280