PECVD-Graphitwafer-Unterstützung

Kurzbeschreibung:

Der auf Präzision und Leistung ausgelegte Graphit-Wafer-Support von VET Energy ist das ideale Material für den Einsatz in der fortschrittlichen Wafer-Verarbeitung, bei der hohe thermische Stabilität und konstante Leistung von entscheidender Bedeutung sind. Ganz gleich, ob Sie mit Halbleiterwafern oder anderen empfindlichen Substraten arbeiten, dieser hochwertige Graphitträger erhöht Ihre Prozesssicherheit und Produktqualität und macht ihn zu einem unverzichtbaren Bestandteil für die moderne Fertigung.

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Produktdetails

Produkt-Tags

Der Graphitwaferträger für den PECVD-Prozess von VET Energy ist ein zentrales Verbrauchsmaterial, das für den PECVD-Prozess (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) entwickelt wurde. Dieses Produkt besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphitmaterial mit ausgezeichneter Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und anderen Eigenschaften und kann eine stabile Stützplattform für den PECVD-Prozess bieten, um die Gleichmäßigkeit und Ebenheit der Filmabscheidung sicherzustellen.

Das „Graphit-Stütz“-Design der Graphit-Wafer-Stütze von VET Energy kann nicht nur den Wafer effektiv stützen, sondern auch thermische Stabilität in der Hochtemperatur- und Hochdruck-PECVD-Umgebung bieten, um die Stabilität des Prozesses sicherzustellen.

Der Graphitwaferträger für den PECVD-Prozess von VET Energy weist die folgenden Eigenschaften auf:

▪Hohe Reinheit:Extrem geringer Verunreinigungsgehalt, Vermeidung einer Kontamination des Films, um die Qualität des Films sicherzustellen.

▪Hohe Dichte:Hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, hält PECVD-Umgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck stand.

▪Gute Dimensionsstabilität:kleine Dimensionsänderungen bei hoher Temperatur, um die Stabilität des Prozesses zu gewährleisten.

▪Hervorragende Wärmeleitfähigkeit:Übertragen Sie effektiv Wärme, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.

▪Starke Korrosionsbeständigkeit:Kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.

▪Maßgeschneiderter Service:Graphit-Auflagetische in verschiedenen Größen und Formen können je nach Kundenwunsch individuell angepasst werden.

Graphitmaterial von SGL:

Typischer Parameter: R6510
Index	Prüfstandard	Wert	Einheit
Durchschnittliche Korngröße	ISO 13320	10	μm
Schüttdichte	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Offene Porosität	DIN66133	10	%
Mittlere Porengröße	DIN66133	1.8	μm
Permeabilität	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell-Härte HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Spezifischer elektrischer Widerstand	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Biegefestigkeit	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Druckfestigkeit	DIN 51910	130	MPa
Elastizitätsmodul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Wärmeausdehnung (20-200℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Wärmeleitfähigkeit (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Es wurde speziell für die hocheffiziente Herstellung von Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großer G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign erhöht den Durchsatz erheblich und ermöglicht höhere Ausbeuten und niedrigere Produktionskosten.

Artikel	Typ	Nummernwaferträger
PEVCD-Grephite-Boot – Die 156er-Serie	156-13 Grephitboot	144
	156-19 Grephitboot	216
	156-21 Grephitboot	240
	156-23 Graphitboot	308
PEVCD-Grephite-Boot – Die 125er-Serie	125-15 Grephiteboot	196
	125-19 Grephiteboot	252
	125-21 Graphitboot	280