bague de mise au point à revêtement CVD

L'anneau de focalisation à revêtement CVD pour gravure plasma est un composant consommable essentiel des systèmes de gravure de semi-conducteurs avancés. Conçu avec une structure composite substrat + revêtement CVD, ce produit optimise la distribution du plasma, améliore l'uniformité de la gravure et prolonge la durée de vie des composants de la chambre.

Chez Vet Energy, nous tirons parti d'une expertise approfondie dans la technologie de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et les matériaux céramiques avancés pour fournir des anneaux de focalisation qui répondent aux exigences strictes des nœuds de semi-conducteurs modernes, y compris les procédés FinFET et 3D NAND.

Rôle de l'anneau de focalisation dans la gravure plasma

Dans les systèmes de gravure plasma (tels que les réacteurs ICP et CCP), l'anneau de focalisation est positionné autour du bord de la plaquette et joue un rôle essentiel dans la stabilité du processus et le rendement.

1. Contrôle de l'uniformité du plasma

L'anneau de focalisation agit comme une frontière électrique et physique qui contribue à réguler la distribution de la densité du plasma sur la surface de la plaquette.

Principaux avantages :

● Uniformité améliorée de la vitesse de gravure
● Réduction de la variation centre-bord
● Répétabilité du processus améliorée

2. Compensation de l'effet de bord

Sans anneau de focalisation, la distorsion de la gaine de plasma au bord de la plaquette peut entraîner une gravure non uniforme.

L’anneau de mise au point fonctionne en réalité comme une « extension virtuelle de la plaquette », minimisant les anomalies liées aux bords telles que :

● Sur-gravure aux bords de la plaquette
● Écart de dimension critique (CD)
● Distorsion du profil

3. Trajectoire des ions et contrôle de l'énergie

En influençant le champ électrique local, l'anneau de focalisation contribue à stabiliser les angles d'incidence des ions et la distribution d'énergie, ce qui est crucial pour :

● Gravure à rapport d'aspect élevé (HAR)
● Contrôle du profil anisotrope
● Réduction des dommages aux parois latérales

4. Protection de la chambre et réduction de la contamination

En tant que composant sacrificiel, l'anneau de focalisation absorbe l'exposition directe au plasma et les sous-produits de dépôt.

Avantages qui en résultent :

● Réduction de l'érosion des parois de la chambre
● Réduction de la contamination particulaire
● Cycles de maintenance prolongés (intervalles de maintenance préventive)