Chinesisches professionelles Reinrheniumfilament - Mocvd

Kurzbeschreibung:


  • Herkunftsort:China
  • Kristallstruktur:FCCβ-Phase
  • Dichte :3,21 g/cm
  • Härte:2500 Vickers
  • Korngröße:2–10 μm
  • Chemische Reinheit:99,99995 %
  • Wärmekapazität:640 J·kg-1·K-1
  • Sublimationstemperatur:2700℃
  • Fingerkraft:415 MPa (RT 4-Punkt)
  • Elastizitätsmodul:430 Gpa (4pt Biegung, 1300℃)
  • Wärmeausdehnung (CTE):4,5 10-6K-1
  • Wärmeleitfähigkeit:300 (W/MK)
  • Produktdetails

    Produkt-Tags

    Wir können unsere geschätzten Käufer in der Regel problemlos mit unserer hervorragenden Qualität, unserem ausgezeichneten Verkaufspreis und unserem guten Service zufriedenstellen, da wir über viel Erfahrung und Fleiß verfügen und dies kosteneffizient für chinesisches professionelles reines Rheniumfilament (Mocvd) tun. Wir laden Sie ein, uns per Telefon oder E-Mail zu kontaktieren und hoffen, eine erfolgreiche und partnerschaftliche Geschäftsbeziehung aufzubauen.
    Wir können unsere geschätzten Käufer in der Regel problemlos mit unserer hervorragenden Qualität, unseren ausgezeichneten Preisen und unserem guten Service zufriedenstellen, da wir weitaus kompetenter und fleißiger sind und dies auf kosteneffiziente Weise tun.China Filament und RheniumDank unseres strengen Qualitätsanspruchs und unseres exzellenten Kundenservices erfreut sich unser Produkt weltweit immer größerer Beliebtheit. Zahlreiche Kunden besuchen unser Werk und erteilen Bestellungen. Auch viele ausländische Freunde kommen zu Besichtigungen oder beauftragen uns mit dem Kauf anderer Produkte. Sie sind herzlich eingeladen, nach China, in unsere Stadt und in unser Werk zu kommen!


       

    SiC-beschichtete Graphitträger

    Produktbeschreibung

    Wir gewährleisten durch hochpräzise Bearbeitung und die Einhaltung engster Toleranzen bei der SiC-Beschichtung ein gleichmäßiges Suszeptorprofil. Zudem fertigen wir Materialien mit idealen elektrischen Widerstandseigenschaften für den Einsatz in induktiv beheizten Systemen. Alle fertigen Komponenten werden mit einem Reinheits- und Maßkonformitätszertifikat geliefert.

    Unser Unternehmen bietet SiC-Beschichtungsverfahren mittels CVD-Verfahren auf Graphit, Keramik und anderen Materialien an. Dabei reagieren spezielle, kohlenstoff- und siliziumhaltige Gase bei hoher Temperatur zu hochreinen SiC-Molekülen. Diese Moleküle lagern sich auf der Oberfläche der beschichteten Materialien ab und bilden eine schützende SiC-Schicht. Die gebildete SiC-Schicht ist fest mit dem Graphitsubstrat verbunden und verleiht diesem besondere Eigenschaften. Dadurch wird die Graphitoberfläche kompakt, porenfrei, hochtemperaturbeständig sowie korrosions- und oxidationsbeständig.

    2

    Das CVD-Verfahren ermöglicht die Herstellung von SiC-Beschichtungen mit extrem hoher Reinheit und theoretischer Dichte ohne Poren. Da Siliciumcarbid zudem sehr hart ist, lässt es sich zu einer spiegelglatten Oberfläche polieren. CVD-Siliciumcarbid (SiC)-Beschichtungen bieten zahlreiche Vorteile, darunter eine ultrareine Oberfläche und extreme Verschleißfestigkeit. Dank ihrer hervorragenden Leistungsfähigkeit unter Hochvakuum- und Hochtemperaturbedingungen eignen sie sich ideal für Anwendungen in der Halbleiterindustrie und anderen Reinraumumgebungen. Wir bieten außerdem Produkte aus pyrolytischem Graphit (PG) an.

    Hauptmerkmale:

    1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:

    Die Oxidationsbeständigkeit ist auch bei Temperaturen von bis zu 1600 °C noch sehr gut.

    2. Hohe Reinheit: hergestellt durch chemische Gasphasenabscheidung unter Hochtemperatur-Chlorierungsbedingungen.

    3. Erosionsbeständigkeit: hohe Härte, kompakte Oberfläche, feine Partikel.

    4. Korrosionsbeständigkeit: gegenüber Säuren, Laugen, Salzen und organischen Reagenzien.

    Hauptspezifikationen von CVD-SiC-Beschichtungen:

    SiC-CVD

    Dichte

    (g/cc)

    3.21

    Biegefestigkeit

    (Mpa)

    470

    Wärmeausdehnung

    (10-6/K)

    4

    Wärmeleitfähigkeit

    (W/mK)

    300

    Anwendung: Die CVD-Siliziumkarbid-Beschichtung wird bereits in der Halbleiterindustrie eingesetzt, beispielsweise in MOCVD-Trays, RTP-Anlagen und Oxidätzkammern, da Siliziumnitrid eine hohe Temperaturwechselbeständigkeit aufweist und hochenergetischem Plasma standhält.
    Siliziumkarbid findet breite Anwendung in der Halbleiterindustrie und bei Beschichtungen.

    Lieferfähigkeit:

    10000 Stück pro Monat
    Verpackung & Lieferung:
    Verpackung: Standard- und stabile Verpackung
    Polybeutel + Karton + Umkarton + Palette
    Hafen:
    Ningbo/Shenzhen/Shanghai
    Lieferzeit:

    Menge (Stück) 1 – 1000 >1000
    Geschätzte Zeit (Tage) 15 Wird verhandelt

    Wir können unsere geschätzten Käufer in der Regel problemlos mit unserer hervorragenden Qualität, unserem ausgezeichneten Verkaufspreis und unserem guten Service zufriedenstellen, da wir über viel Erfahrung und Fleiß verfügen und dies kosteneffizient für chinesisches professionelles reines Rheniumfilament (Mocvd) tun. Wir laden Sie ein, uns per Telefon oder E-Mail zu kontaktieren und hoffen, eine erfolgreiche und partnerschaftliche Geschäftsbeziehung aufzubauen.
    Chinesischer FachmannChina Filament und RheniumDank unseres strengen Qualitätsanspruchs und unseres exzellenten Kundenservices erfreut sich unser Produkt weltweit immer größerer Beliebtheit. Zahlreiche Kunden besuchen unser Werk und erteilen Bestellungen. Auch viele ausländische Freunde kommen zu Besichtigungen oder beauftragen uns mit dem Kauf anderer Produkte. Sie sind herzlich eingeladen, nach China, in unsere Stadt und in unser Werk zu kommen!


  • Vorherige:
  • Nächste:

  • WhatsApp-Online-Chat!