Siliziumkarbidbeschichtete Graphit-Schale und Deckel

Siliziumkarbidbeschichtete Graphitschale und -abdeckung (Abbildung)

Kurzbeschreibung:

Die Siliziumkarbid-beschichtete Graphitplatte und -abdeckung von VET Energy ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine gleichbleibende und zuverlässige Leistung über einen langen Zeitraum entwickelt wurde. Es zeichnet sich durch hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Gleichmäßigkeit, hohe Reinheit und Erosionsbeständigkeit aus und ist somit die ideale Lösung für die Waferbearbeitung.

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Produktdetails

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VET EnergySiliziumkarbid-Beschichtung GraphitschaleDie Platte und Abdeckung wurde für höchste Leistung entwickelt und gewährleistet einen zuverlässigen und gleichmäßigen Betrieb über einen längeren Zeitraum. Dadurch ist sie die ideale Wahl für Wafer-Bearbeitungsanwendungen in der Halbleiterindustrie. Diese HochleistungsplatteSiliziumkarbidbeschichtung GraphitplatteEs zeichnet sich durch außergewöhnliche Hitzebeständigkeit, hervorragende thermische Homogenität und ausgezeichnete chemische Stabilität aus, insbesondere unter Hochtemperaturbedingungen. Seine hochreine Zusammensetzung in Verbindung mit fortschrittlicher Erosionsbeständigkeit macht es unverzichtbar für anspruchsvolle Umgebungen wie beispielsweiseMOCVD-Suszeptoren.

Hauptmerkmale der Siliziumkarbid-Beschichtung: Graphitschale, -platte und -deckel

1. Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen:Hält Temperaturen bis zu 1700℃ stand und ermöglicht so einen zuverlässigen Betrieb auch unter extremen Bedingungen.

2. Hohe Reinheit und thermische Gleichmäßigkeit:Eine gleichbleibend hohe Reinheit und eine gleichmäßige Wärmeverteilung sind für MOCVD-Anwendungen von entscheidender Bedeutung.

3. Außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit:Beständig gegen Säuren, Laugen, Salze und verschiedene organische Reagenzien, wodurch eine Langzeitstabilität in unterschiedlichen Umgebungen gewährleistet wird.

4. Hohe Härte und kompakte Oberfläche:Verfügt über eine dichte Oberfläche mit feinen Partikeln, was die allgemeine Haltbarkeit und Verschleißfestigkeit verbessert.

5. Verlängerte Lebensdauer:Entwickelt für Langlebigkeit, übertrifft herkömmliche ProdukteSiliziumkarbid-beschichtete Graphitsuszeptorenin rauen Umgebungen der Halbleiterverarbeitung.

CVD SiC薄膜基本物理性能 Grundlegende physikalische Eigenschaften von CVD-SiCBeschichtung
性质 / Eigentum	典型数值 / Typischer Wert
晶体结构 / Kristallstruktur	FCC β-Phase多晶, 主要为（111）取向
密度 / Dichte	3,21 g/cm³
硬度 / Härte	2500 U/min (500 g Ladung)
晶粒大小 / Korngröße	2–10 μm
纯度 Chemische Reinheit	99,99995 %
热容 / Wärmekapazität	640 J·kg^-1·K^-1
升华温度 / Sublimationstemperatur	2700℃
抗弯强度 / Biegefestigkeit	415 MPa RT 4-Punkt
杨氏模量 / Elastizitätsmodul	430 GPA 4pt Biegung, 1300℃
导热系数 / ThermelLeitfähigkeit	300 W·m^-1·K^-1
热膨胀系数 / Wärmeausdehnung (CTE)	4,5×10^-6K^-1

Die Expertise von VET Energy im Bereich kundenspezifischer Graphit- und Siliziumkarbidlösungen

Als etablierter Hersteller ist VET Energy auf kundenspezifische Graphitsuszeptoren und Siliziumkarbid-Beschichtungslösungen spezialisiert. Wir bieten eine Reihe von Produkten an, die speziell auf die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie zugeschnitten sind, darunter:SiC-beschichtete Graphitkomponentenwie Tabletts, Teller und Abdeckungen. Unser Produktsortiment umfasst auch verschiedene Beschichtungsoptionen, wie zum Beispiel:SiC-Beschichtung für MOCVD, TaC-Beschichtung, Glaskohlenstoffbeschichtungund pyrolytischer Kohlenstoffbeschichtung, um den unterschiedlichen Anforderungen der Hightech-Industrie gerecht zu werden.

Unser erfahrenes technisches Team, bestehend aus Experten führender inländischer Forschungseinrichtungen, bietet umfassende Materiallösungen für unsere Kunden. Wir optimieren kontinuierlich unsere fortschrittlichen Verfahren, darunter eine exklusive, patentierte Technologie, die die Haftung zwischen der Siliziumkarbidbeschichtung und dem Graphitsubstrat verbessert, das Risiko des Ablösens verringert und die Lebensdauer des Produkts weiter verlängert.

Anwendungen und Vorteile in der Halbleiterfertigung

DerSiliziumkarbidbeschichtung für MOCVDDadurch sind diese Graphit-Suszeptoren in korrosiven Umgebungen mit hohen Temperaturen äußerst effektiv. Ob als Träger für Graphitwafer oder in anderen MOCVD-Komponenten eingesetzt, zeichnen sich diese mit Siliziumkarbid beschichteten Suszeptoren durch überlegene Haltbarkeit und Leistung aus. Für alle, die zuverlässige Lösungen suchen in derSiC-beschichteter GraphitsuszeptorAuf dem Markt bieten die mit Siliziumkarbid beschichteten Graphitschalen, -platten und -deckel von VET Energy eine robuste und vielseitige Option, die den hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird.

Durch die Fokussierung auf fortschrittliche Materialwissenschaften engagiert sich VET Energy für die Bereitstellung von Hochleistungs-SiC-beschichteten Graphitlösungen, die Innovationen in der Halbleiterverarbeitung vorantreiben und eine zuverlässige Leistung in allen MOCVD-bezogenen Anwendungen gewährleisten.

VET Energy ist der eigentliche Hersteller von kundenspezifischen Graphit- und Siliciumcarbidprodukten mit verschiedenen Beschichtungen wie SiC-Beschichtung, TaC-Beschichtung, Glaskohlenstoffbeschichtung, pyrolytischer Kohlenstoffbeschichtung usw. und kann verschiedene kundenspezifische Teile für die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie liefern.

Unser technisches Team stammt von führenden inländischen Forschungseinrichtungen und kann Ihnen daher professionellere Materiallösungen anbieten.

Wir entwickeln kontinuierlich fortschrittliche Verfahren, um fortschrittlichere Materialien bereitzustellen, und haben eine exklusive patentierte Technologie entwickelt, die eine festere Verbindung zwischen Beschichtung und Substrat ermöglicht und die Ablösung verringert.

Wir heißen Sie herzlich willkommen zu einem Besuch in unserer Fabrik, lassen Sie uns das Thema weiter besprechen!