SiC-Beschichtung/Beschichtetes Graphitsubstrat/Tray für Halbleiter

Kurzbeschreibung:

Der SiC-beschichtete Graphitsuszeptor von VET Energy für das epitaktische Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine gleichbleibende und zuverlässige Leistung über einen langen Zeitraum entwickelt wurde. Er zeichnet sich durch hervorragende Hitzebeständigkeit und thermische Homogenität, hohe Reinheit und Erosionsbeständigkeit aus und ist somit die ideale Lösung für die Waferbearbeitung.


Produktdetails

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SiC-Beschichtung/beschichtete Graphitsuszeptoren für Halbleiter
 
DerSiC-beschichtetes Graphitsubstratist eine äußerst langlebige und effiziente Lösung, die speziell für die hohen Anforderungen der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Sie verfügt über eine Schicht aus hochreinemSiliziumkarbid (SiC)-BeschichtungDieses Substrat bietet eine außergewöhnliche thermische Stabilität, Oxidationsbeständigkeit und verlängerte Lebensdauer und eignet sich daher ideal für Anwendungen in MOCVD-Prozessen, Graphitwaferträgern und anderen Hochtemperaturumgebungen.

 Merkmale: 
• Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit
• Ausgezeichnete Stoßfestigkeit
• Ausgezeichnete Chemikalienbeständigkeit
• Höchste Reinheit
• Verfügbarkeit in komplexen Formen
•Einsetzbar unter oxidierender Atmosphäre

Anwendung:

3

Produktmerkmale und Vorteile:

1. Hervorragende Wärmebeständigkeit:Mit hoher ReinheitSiC-BeschichtungDas Substrat hält extremen Temperaturen stand und gewährleistet so eine gleichbleibende Leistungsfähigkeit in anspruchsvollen Umgebungen wie der Epitaxie und der Halbleiterfertigung.

2. Erhöhte Haltbarkeit:Die SiC-beschichteten Graphitkomponenten sind so konzipiert, dass sie chemischer Korrosion und Oxidation widerstehen und somit die Lebensdauer des Substrats im Vergleich zu Standard-Graphitsubstraten erhöhen.

3. Glasbeschichteter Graphit:Die einzigartige Glasstruktur desSiC-Beschichtungbietet eine ausgezeichnete Oberflächenhärte und minimiert so den Verschleiß bei der Hochtemperaturverarbeitung.

4. Hochreine SiC-Beschichtung:Unser Substrat gewährleistet minimale Verunreinigungen in empfindlichen Halbleiterprozessen und bietet Zuverlässigkeit für Branchen, die höchste Materialreinheit erfordern.

5. Breites Marktspektrum:DerSiC-beschichteter GraphitsuszeptorDer Markt wächst weiter, da die Nachfrage nach fortschrittlichen SiC-beschichteten Produkten in der Halbleiterfertigung zunimmt, wodurch sich dieses Substrat als wichtiger Akteur sowohl auf dem Markt für Graphit-Waferträger als auch auf dem Markt für mit Siliziumkarbid beschichtete Graphitschalen positioniert.

Typische Eigenschaften des Basisgraphitmaterials:

Scheinbare Dichte: 1,85 g/cm³
Elektrischer Widerstand: 11 μΩm
Biegefestigkeit: 49 MPa (500 kgf/cm²)
Shore-Härte: 58
Asche: <5 ppm
Wärmeleitfähigkeit: 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃)

 

CVD SiC薄膜基本物理性能

Grundlegende physikalische Eigenschaften von CVD-SiCBeschichtung

性质 / Eigentum

典型数值 / Typischer Wert

晶体结构 / Kristallstruktur

Die FCC-β-Phase ist nicht zugelassen (111).

密度 / Dichte

3,21 g/cm³

硬度 / Härte

2500 U/min (500 g Ladung)

晶粒大小 / Korngröße

2–10 μm

纯度 / Chemische Reinheit

99,99995 %

热容 / Wärmekapazität

640 J·kg-1·K-1

升华温度 / Sublimationstemperatur

2700℃

抗弯强度 / Biegefestigkeit

415 MPa RT 4-Punkt

杨氏模量 / Elastizitätsmodul

430 GPA 4pt Biegung, 1300℃

导热系数 / Wärmeleitfähigkeit

300 W·m-1·K-1

Wärmeausdehnung / Wärmeausdehnung (CTE)

4,5×10-6K-1

1

2

 

 

VET Energy ist der eigentliche Hersteller von kundenspezifischen Graphit- und Siliciumcarbidprodukten mit verschiedenen Beschichtungen wie SiC-Beschichtung, TaC-Beschichtung, Glaskohlenstoffbeschichtung, pyrolytischer Kohlenstoffbeschichtung usw. und kann verschiedene kundenspezifische Teile für die Halbleiter- und Photovoltaikindustrie liefern.

Unser technisches Team stammt von führenden inländischen Forschungseinrichtungen und kann Ihnen daher professionellere Materiallösungen anbieten.

Wir entwickeln kontinuierlich fortschrittliche Verfahren, um fortschrittlichere Materialien bereitzustellen, und haben eine exklusive patentierte Technologie entwickelt, die eine festere Verbindung zwischen Beschichtung und Substrat ermöglicht und die Ablösung verringert.

Wir heißen Sie herzlich willkommen zu einem Besuch in unserer Fabrik, lassen Sie uns das Thema weiter besprechen!

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