Poröser, mit Tantalcarbid beschichteter Graphitring

Poröser, mit Tantalcarbid beschichteter Graphitring
Poröses, mit Tantalcarbid (TaC) beschichtetes Graphitist ein Schlüsselmaterial, das speziell für die Hochtemperatur- und stark korrosiven Umgebungen der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Sein Substrat besteht aus hochreinem isostatischem Graphit, der mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) mit einer gleichmäßig porösen Tantalcarbid-Schicht überzogen ist. TaC zeichnet sich durch eine extrem hohe Härte (9–10 auf der Mohs-Skala) und einen Schmelzpunkt von 3880 °C aus. In Kombination mit der hervorragenden thermischen Stabilität und dem geringen Gewicht von Graphit vereint dieses Material Hochtemperaturfestigkeit mit Beständigkeit gegenüber chemischen Angriffen und Temperaturschocks und ist somit ideal für Halbleiterprozessanlagen geeignet, die unter extremen Bedingungen arbeiten.

Vorteile von porösem Tantalcarbid-Graphit:
1. Extrem hohe Korrosionsbeständigkeit
-TaC ist chemisch inert und widersteht wirksam der Korrosion durch Halogene wie Fluor und Chlor, wodurch die Lebensdauer der Geräte erheblich verlängert wird.
-Die poröse Struktur vergrößert die Oberfläche der Beschichtung, bildet eine robustere Schutzbarriere und verringert das Risiko des Ablösens von Partikeln.
2. Ausgezeichnete Hochtemperaturstabilität
Mit einem Schmelzpunkt von nahezu 4000°C kann es über längere Zeiträume im Vakuum oder in inerten Atmosphären mit Temperaturen über 2500°C betrieben werden.
Der Wärmeausdehnungskoeffizient der Beschichtung ist sehr gut auf den des Graphits abgestimmt, wodurch Risse und Delaminationen durch thermische Belastung verhindert werden.
3. Hohe Reinheit und geringe Verunreinigung
Durch die Verwendung von Rohstoffen und Verfahren in Halbleiterqualität ist der Anteil an metallischen Verunreinigungen extrem niedrig, wodurch das Risiko einer Waferkontamination deutlich reduziert wird.
Die Oberfläche ist dicht und chemisch stabil, wodurch die Partikelbildung reduziert und strenge Reinraumstandards erfüllt werden.
4. Kundenspezifisches Design
Komplexe Formen können nach Kundenzeichnungen hergestellt werden, und Porosität und Beschichtungsdicke können so gesteuert werden, dass ein optimaler Gasfluss und eine optimale Wärmeleitfähigkeit erreicht werden.
5. Lange Lebensdauer und geringe Wartungskosten
Die extrem hohe Korrosions- und Verschleißbeständigkeit poröser TaC-Beschichtungen verlängert die Lebensdauer der Bauteile um das 3- bis 5-Fache im Vergleich zu herkömmlichem Graphit, wodurch die Austauschhäufigkeit und die Wartungskosten reduziert werden.

Hauptanwendungen
1. Kernkomponenten für die Waferfertigung
- Reaktionskammerauskleidungen, Prallbleche und Duschkopf für CVD/ALD-Anlagen
- PVD-Zielunterstützungen
- Hochtemperatur-Prozesskomponenten für Diffusion, Oxidation, Glühen und andere Prozesse
2. Chemische Gasphasenabscheidungssysteme
- Schutz wichtiger Komponenten in stark korrosiven Umgebungen (wie Fluoriden und Chloriden) während des Prozesses
3. Andere korrosive Umgebungen mit hohen Temperaturen
- Geeignet für die chemische Gasreinigung, spezielle Wärmebehandlungsöfen und andere Anwendungen.