BerufsbildungsenergieDer Graphitträger für den PECVD-Prozess ist ein hochwertiges Verbrauchsmaterial, das auf den PECVD-Prozess (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) zugeschnitten ist. Dieser Graphitträger besteht aus hochreinem, hochdichtem Graphitmaterial mit ausgezeichneter Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Dimensionsstabilität und anderen Eigenschaften und kann eine stabile Trägerplattform für den PECVD-Prozess bieten, um die Gleichmäßigkeit und Ebenheit des Dünnfilms sicherzustellen Ablagerung.
Graphitträger für den PECVD-Prozess weisen folgende Eigenschaften auf:
▪ Hohe Reinheit: extrem geringer Gehalt an Verunreinigungen, wodurch eine Kontamination des Films vermieden und die Filmqualität sichergestellt wird.
▪ Hohe Dichte: Hohe Dichte, hohe mechanische Festigkeit, beständig gegen PECVD-Umgebungen mit hohen Temperaturen und hohem Druck.
▪ Gute Dimensionsstabilität: Geringe Dimensionsänderung bei hoher Temperatur, wodurch Prozessstabilität gewährleistet wird.
▪ Hervorragende Wärmeleitfähigkeit: Wärme effektiv übertragen, um eine Überhitzung des Wafers zu verhindern.
▪ Starke Korrosionsbeständigkeit: Kann der Erosion durch verschiedene korrosive Gase und Plasma widerstehen.
▪ Maßgeschneiderter Service: Graphitträger in verschiedenen Größen und Formen können individuell an die Kundenbedürfnisse angepasst werden.
Graphitmaterial von SGL:
| Typischer Parameter: R6510 | |||
| Index | Prüfstandard | Wert | Einheit |
| Durchschnittliche Korngröße | ISO 13320 | 10 | μm |
| Schüttdichte | DIN IEC 60413/204 | 1,83 | g/cm3 |
| Offene Porosität | DIN66133 | 10 | % |
| Mittlere Porengröße | DIN66133 | 1.8 | μm |
| Permeabilität | DIN 51935 | 0,06 | cm²/s |
| Rockwell-Härte HR5/100 | DIN IEC60413/303 | 90 | HR |
| Spezifischer elektrischer Widerstand | DIN IEC 60413/402 | 13 | μΩm |
| Biegefestigkeit | DIN IEC 60413/501 | 60 | MPa |
| Druckfestigkeit | DIN 51910 | 130 | MPa |
| Elastizitätsmodul | DIN 51915 | 11,5×10³ | MPa |
| Wärmeausdehnung (20-200℃) | DIN 51909 | 4,2X10-6 | K-1 |
| Wärmeleitfähigkeit (20℃) | DIN 51908 | 105 | Wm-1K-1 |
Es wurde speziell für die hocheffiziente Herstellung von Solarzellen entwickelt und unterstützt die Verarbeitung großer G12-Wafer. Das optimierte Trägerdesign erhöht den Durchsatz erheblich und ermöglicht höhere Ausbeuten und niedrigere Produktionskosten.
| Artikel | Typ | Nummernwaferträger |
| PEVCD-Grephite-Boot – Die 156er-Serie | 156-13 Grephitboot | 144 |
| 156-19 Grephitboot | 216 | |
| 156-21 Grephitboot | 240 | |
| 156-23 Graphitboot | 308 | |
| PEVCD-Grephite-Boot – Die 125er-Serie | 125-15 Grephiteboot | 196 |
| 125-19 Grephiteboot | 252 | |
| 125-21 Graphitboot | 280 |
