Fokusring mit CVD-Beschichtung

Kurzbeschreibung:

Der CVD-beschichtete Fokusring für das Plasmaätzen optimiert die Plasmaverteilung und verbessert die Ätzgleichmäßigkeit in modernen Ätzsystemen. Dank seines robusten Si- oder SiC-Substrats in Kombination mit einer hochreinen CVD-SiC-Beschichtung bietet er überlegene Plasmabeständigkeit, extrem geringe Partikelbildung und eine lange Lebensdauer. Der Fokusring findet breite Anwendung in ICP- und CCP-Plasmaätzprozessen, minimiert effektiv Randeffekte, stabilisiert das Ionenverhalten und schützt die Kammerkomponenten vor Erosion und Kontamination. Er ist ein unverzichtbares Verbrauchsmaterial für hohe Ausbeuten und Prozesskonsistenz in der modernen Halbleiterfertigung.

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Produktdetails

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Der CVD-Beschichtungsfokusring für das Plasmaätzen ist ein wichtiges Verbrauchsmaterial in modernen Halbleiterätzsystemen. Dank seiner Verbundstruktur aus Substrat und CVD-Beschichtung optimiert dieses Produkt die Plasmaverteilung, verbessert die Ätzgleichmäßigkeit und verlängert die Lebensdauer der Kammerkomponenten.

Bei Vet Energy nutzen wir unsere umfassende Expertise in der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und fortschrittlichen Keramikmaterialien, um Fokusringe zu liefern, die den strengen Anforderungen moderner Halbleitertechnologien, einschließlich FinFET- und 3D-NAND-Prozessen, gerecht werden.

Rolle des Fokusrings beim Plasmaätzen

Bei Plasmaätzsystemen (wie ICP- und CCP-Reaktoren) befindet sich der Fokusring um den Waferrand und spielt eine entscheidende Rolle für die Prozessstabilität und die Ausbeute.

1. Kontrolle der Plasmahomogenität

Der Fokusring fungiert als elektrische und physikalische Begrenzung, die dazu beiträgt, die Plasmadichteverteilung über die Waferoberfläche zu regulieren.

Wichtigste Vorteile:

● Verbesserte Gleichmäßigkeit der Ätzrate
● Reduzierte Abweichung zwischen Mitte und Rand
● Verbesserte Prozesswiederholbarkeit

2. Kanteneffektkompensation

Ohne Fokusring kann eine Verzerrung der Plasmaschicht am Waferrand zu ungleichmäßigem Ätzen führen.

Der Fokusring fungiert effektiv als „virtuelle Waferverlängerung“ und minimiert so randbedingte Anomalien wie:

● Überätzung an den Waferrändern
● Abweichung der kritischen Abmessung (CD)
● Profilverzerrung

3. Ionenbahn- und Energiekontrolle

Durch die Beeinflussung des lokalen elektrischen Feldes trägt der Fokusring zur Stabilisierung der Ionen-Einfallswinkel und der Energieverteilung bei, was von entscheidender Bedeutung ist für:

● Ätzen mit hohem Aspektverhältnis (HAR)
● Anisotrope Profilsteuerung
● Reduzierte Seitenwandschäden