Oblea SiC tipo N de 6 polgadas

Breve descrición:

A oblea de SiC tipo N de 6 polgadas de VET Energy é un substrato de alto rendemento deseñado para aplicacións avanzadas de semicondutores, que ofrece unha condutividade térmica e unha eficiencia energética superiores. VET Energy utiliza tecnoloxía de punta para producir obleas de alta calidade que cumpran as esixencias rigorosas da electrónica moderna, garantindo fiabilidade e durabilidade nos dispositivos de enerxía.


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Esta oblea de SiC tipo N de 6 polgadas está deseñada para mellorar o rendemento en condicións extremas, polo que é unha opción ideal para aplicacións que requiren alta potencia e resistencia á temperatura. Os produtos clave asociados con esta oblea inclúen obleas de Si, o substrato de SiC, o de oblea SOI e o substrato de SiN. Estes materiais garanten un rendemento óptimo nunha variedade de procesos de fabricación de semicondutores, permitindo dispositivos que sexan eficientes enerxéticamente e duradeiros.

Para as empresas que traballan con Epi Wafer, Óxido de Galio Ga2O3, Cassette ou AlN Wafer, a oblea SiC tipo N de 6 polgadas de VET Energy proporciona a base necesaria para o desenvolvemento de produtos innovadores. Tanto se se trata de electrónica de alta potencia como da última tecnoloxía de RF, estas obleas garanten unha excelente condutividade e unha mínima resistencia térmica, superando os límites da eficiencia e do rendemento.

第6页-36
第6页-35

ESPECIFICACIÓNS DA OBLEA

*n-Pm=n-tipo Pm-Grado, n-Ps=n-tipo Ps-Grado, Sl=Semi-isolante

Elemento

8 polgadas

6 polgadas

4 polgadas

nP

n-p.m

n-Ps

SI

SI

TTV (GBIR)

≤ 6um

≤ 6um

Bow (GF3YFCD) - Valor absoluto

≤ 15 μm

≤ 15 μm

≤ 25 μm

≤ 15 μm

Deformación (GF3YFER)

≤ 25 μm

≤ 25 μm

≤ 40 μm

≤ 25 μm

LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm

<2 μm

Borde de oblea

Biselado

ACABADO SUPERFICIAL

*n-Pm=n-tipo Pm-Grado, n-Ps=n-tipo Ps-Grado, Sl=Semi-isolante

Elemento

8 polgadas

6 polgadas

4 polgadas

nP

n-p.m

n-Ps

SI

SI

Acabado superficial

Esmalte óptico de doble cara, Si-face CMP

Rugosidade superficial

(10um x 10um) Si-FaceRa ≤0,2 nm
C-Face Ra ≤ 0,5 nm

(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm
C-Face Ra≤0,5 nm

Chips de borde

Ningún permitido (longo e ancho ≥0,5 mm)

sangrías

Ningún permitido

Arañazos (Si-face)

Cant.≤5,Acumulativo
Lonxitude ≤0,5 × diámetro da oblea

Cant.≤5,Acumulativo
Lonxitude ≤0,5 × diámetro da oblea

Cant.≤5,Acumulativo
Lonxitude ≤0,5 × diámetro da oblea

Gretas

Ningún permitido

Exclusión de borde

3 mm

tech_1_2_tamaño
下载 (2)

  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Chat en liña de WhatsApp!