Prix ​​le plus bas pour la Chine Réchauffeur de graphite personnalisé de haute qualité pour four à lingots de silicium polycristallin

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Une plaquette est une tranche de silicium d'environ 1 millimètre d'épaisseur qui présente une surface extrêmement plane grâce à des procédés techniquement très exigeants. L'utilisation ultérieure détermine quelle procédure de croissance des cristaux doit être utilisée. Dans le procédé Czochralski, par exemple, le silicium polycristallin est fondu et un germe cristallin de la taille d'un crayon est plongé dans le silicium fondu. Le cristal germe est ensuite tourné et lentement tiré vers le haut. Il en résulte un colosse très lourd, un monocristal. Il est possible de sélectionner les caractéristiques électriques du monocristal en ajoutant de petites unités de dopants de haute pureté. Les cristaux sont dopés selon les spécifications du client puis polis et découpés en tranches. Après diverses étapes de production supplémentaires, le client reçoit les plaquettes spécifiées dans un emballage spécial, ce qui lui permet d'utiliser la plaquette immédiatement dans sa ligne de production.

Une plaquette doit passer par plusieurs étapes avant d’être prête à être utilisée dans des appareils électroniques. Un processus important est l'épitaxie du silicium, dans lequel les tranches sont portées sur des suscepteurs en graphite. Les propriétés et la qualité des suscepteurs ont un effet crucial sur la qualité de la couche épitaxiale de la tranche.

Pour les phases de dépôt de couches minces telles que l'épitaxie ou le MOCVD, VET fournit des équipements en graphite ultra-pur utilisés pour supporter des substrats ou « wafers ». Au cœur du procédé, ces équipements, suscepteurs d'épitaxie ou plateformes satellites pour le MOCVD, sont d'abord soumis à l'environnement de dépôt :

Haute température.
Vide poussé.
Utilisation de précurseurs gazeux agressifs.
Zéro contamination, absence de pelage.
Résistance aux acides forts lors des opérations de nettoyage