Notre entreprise a pour objectif permanent la satisfaction de ses clients. Nous mettons tout en œuvre pour vous proposer des solutions innovantes et performantes, répondant à vos exigences spécifiques et vous offrant un accompagnement complet avant, pendant et après la vente de notre nouveau four tubulaire CVD à plasma pour le dépôt de films durs de haute qualité. N'hésitez pas à nous contacter pour toute demande d'information ; nous nous engageons à vous fournir un service irréprochable.
La satisfaction de nos clients est notre priorité absolue. Nous mettrons tout en œuvre pour vous proposer des solutions innovantes et performantes, répondre à vos exigences spécifiques et vous fournir un accompagnement complet avant, pendant et après la vente.Four tubulaire CVD et dépôt chimique en phase vapeur par four tubulaire CVD en ChineDans un marché de plus en plus concurrentiel, forts d'un service sincère, de produits de haute qualité et d'une réputation bien méritée, nous accompagnons nos clients sur les produits et les techniques afin d'établir une coopération durable. L'excellence et la fiabilité sont nos maîtres mots. Nous sommes convaincus qu'après votre visite, nous deviendrons des partenaires de longue date.
carbone / composites de carbone(ci-après dénommé «C/C ou CFCLe carbone est un matériau composite à base de carbone renforcé par des fibres de carbone et leurs dérivés (préformes de fibres de carbone). Il combine l'inertie du carbone et la haute résistance des fibres de carbone. Il présente de bonnes propriétés mécaniques, une résistance à la chaleur et à la corrosion, un amortissement du frottement et des caractéristiques de conductivité thermique et électrique élevées.
CVD-SiCLe revêtement présente les caractéristiques suivantes : structure uniforme, matériau compact, résistance aux hautes températures, résistance à l'oxydation, haute pureté, résistance aux acides et aux alcalis et aux réactifs organiques, avec des propriétés physiques et chimiques stables.
Comparé aux matériaux en graphite de haute pureté, le graphite commence à s'oxyder à 400 °C, ce qui entraîne une perte de poudre due à l'oxydation, provoquant une pollution environnementale des dispositifs périphériques et des chambres à vide, et augmentant les impuretés dans l'environnement de haute pureté.
Cependant, le revêtement SiC peut maintenir une stabilité physique et chimique à 1600 degrés. Il est largement utilisé dans l'industrie moderne, notamment dans l'industrie des semi-conducteurs.
Notre entreprise propose des services de revêtement SiC par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur graphite, céramique et autres matériaux. Ce procédé utilise des gaz spécifiques contenant du carbone et du silicium qui réagissent à haute température pour obtenir des molécules de SiC de haute pureté. Ces molécules se déposent ensuite sur la surface des matériaux revêtus, formant une couche protectrice de SiC. Cette couche de SiC adhère fortement au support en graphite, lui conférant des propriétés particulières : une surface compacte, non poreuse, résistante aux hautes températures, à la corrosion et à l’oxydation.
Caractéristiques principales :
1. Résistance à l'oxydation à haute température :
La résistance à l'oxydation reste très bonne même à des températures atteignant 1600 °C.
2. Haute pureté : fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur dans des conditions de chloration à haute température.
3. Résistance à l'érosion : dureté élevée, surface compacte, particules fines.
4. Résistance à la corrosion : acides, bases, sels et réactifs organiques.
Principales caractéristiques des revêtements CVD-SIC :
| SiC-CVD | ||
| Densité | (g/cc)
| 3.21 |
| Résistance à la flexion | (Mpa)
| 470 |
| dilatation thermique | (10-6/K) | 4
|
| conductivité thermique | (W/mK) | 300
|
