SiC-BeschichtungGraphitsubstrat für HalbleiterSiliziumkarbidbeschichtungMOCVD-Suszeptor,
Graphitsubstrat, Graphitsubstrat für Halbleiter, MOCVD-Suszeptor, Siliziumkarbidbeschichtung,
Zu den besonderen Vorteilen unserer SiC-beschichteten Graphitsuszeptoren zählen extrem hohe Reinheit, homogene Beschichtung und eine ausgezeichnete Lebensdauer. Sie weisen zudem eine hohe chemische Beständigkeit und thermische Stabilität auf.
SiC-BeschichtungGraphitsubstratFür Halbleiteranwendungen wird ein Bauteil mit überlegener Reinheit und Beständigkeit gegenüber oxidierender Atmosphäre hergestellt.
CVD-SiC oder CVI-SiC wird auf Graphit von Bauteilen mit einfacher oder komplexer Konstruktion aufgebracht. Die Beschichtung kann in unterschiedlichen Schichtdicken und auf sehr großen Bauteilen erfolgen.

Merkmale:
• Ausgezeichnete Temperaturwechselbeständigkeit
• Ausgezeichnete Stoßfestigkeit
• Ausgezeichnete Chemikalienbeständigkeit
• Höchste Reinheit
• Verfügbarkeit in komplexen Formen
• Anwendbar unter oxidierender Atmosphäre
Typische Eigenschaften des Basisgraphitmaterials:
| Scheinbare Dichte: | 1,85 g/cm³ |
| Elektrischer Widerstand: | 11 μΩm |
| Biegefestigkeit: | 49 MPa (500 kgf/cm²) |
| Shore-Härte: | 58 |
| Asche: | <5 ppm |
| Wärmeleitfähigkeit: | 116 W/mK (100 kcal/mhr-℃) |
Carbon liefert Suszeptoren und Graphitkomponenten für alle gängigen Epitaxiereaktoren. Unser Portfolio umfasst Barrel-Suszeptoren für angewandte und LPE-Anlagen, Pancake-Suszeptoren für LPE-, CSD- und Gemini-Anlagen sowie Single-Wafer-Suszeptoren für angewandte und ASM-Anlagen. Durch die Kombination starker Partnerschaften mit führenden OEMs, Materialexpertise und Fertigungs-Know-how bietet SGL das optimale Design für Ihre Anwendung.




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