VET Energy GaN на кремниевой пластине — это передовое полупроводниковое решение, разработанное специально для радиочастотных (РЧ) приложений. Путем эпитаксиального выращивания высококачественного нитрида галлия (GaN) на кремниевой подложке компания VET Energy предоставляет экономичную и высокопроизводительную платформу для широкого спектра радиочастотных устройств.
Эта пластина GaN на кремнии совместима с другими материалами, такими как Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer и SiN Substrate, что расширяет ее универсальность для различных производственных процессов. Кроме того, он оптимизирован для использования с пластинами Epi и современными материалами, такими как оксид галлия Ga2O3 и пластина AlN, что еще больше расширяет возможности его применения в мощной электронике. Пластины предназначены для бесшовной интеграции в производственные системы с использованием стандартной обработки кассет для простоты использования и повышения эффективности производства.
VET Energy предлагает широкий ассортимент полупроводниковых подложек, включая Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer, оксид галлия Ga2O3 и AlN Wafer. Наша разнообразная линейка продуктов удовлетворяет потребности различных электронных приложений, от силовой электроники до радиочастотной и оптоэлектроники.
GaN на кремниевой пластине предлагает несколько преимуществ для радиочастотных приложений:
• Высокочастотные характеристики:Широкая запрещенная зона GaN и высокая подвижность электронов обеспечивают высокочастотную работу, что делает его идеальным для 5G и других высокоскоростных систем связи.
• Высокая плотность мощности:Устройства GaN могут выдерживать более высокую плотность мощности по сравнению с традиционными устройствами на основе кремния, что приводит к созданию более компактных и эффективных радиочастотных систем.
• Низкое энергопотребление:Устройства на основе GaN демонстрируют более низкое энергопотребление, что приводит к повышению энергоэффективности и снижению тепловыделения.
Приложения:
• Беспроводная связь 5G:Пластины GaN на кремнии необходимы для создания высокопроизводительных базовых станций 5G и мобильных устройств.
• Радарные системы:ВЧ усилители на основе GaN используются в радиолокационных системах из-за их высокой эффективности и широкой полосы пропускания.
• Спутниковая связь:Устройства GaN позволяют создавать мощные и высокочастотные системы спутниковой связи.
• Военная электроника:Радиочастотные компоненты на основе GaN используются в военных приложениях, таких как радиоэлектронная борьба и радиолокационные системы.
VET Energy предлагает настраиваемые GaN на кремниевых пластинах в соответствии с вашими конкретными требованиями, включая различные уровни легирования, толщины и размеры пластин. Наша команда экспертов обеспечивает техническую поддержку и послепродажное обслуживание для обеспечения вашего успеха.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
*n-Pm=n-тип Pm-класс,n-Ps=n-тип Ps-класс,Sl=полуизолирующий
Элемент | 8-дюймовый | 6-дюймовый | 4-дюймовый | ||
НП | n-PM | н-Пс | SI | SI | |
ТТВ(ГБИР) | ≤6 мкм | ≤6 мкм | |||
Лук(GF3YFCD)-Абсолютная ценность | ≤15 мкм | ≤15 мкм | ≤25 мкм | ≤15 мкм | |
Деформация(GF3YFER) | ≤25 мкм | ≤25 мкм | ≤40 мкм | ≤25 мкм | |
ЛТВ(СБИР)-10ммх10мм | <2 мкм | ||||
Край вафли | Снятие фаски |
ОТДЕЛКА ПОВЕРХНОСТИ
*n-Pm=n-тип Pm-класс,n-Ps=n-тип Ps-класс,Sl=полуизолирующий
Элемент | 8-дюймовый | 6-дюймовый | 4-дюймовый | ||
НП | n-PM | н-Пс | SI | SI | |
Поверхностная обработка | Двусторонняя оптическая полировка, Si-Face CMP | ||||
Шероховатость поверхности | (10 мкм x 10 мкм) Si-FaceRa≤0,2 нм | (5umx5um) Si-Face Ra≤0,2 нм | |||
Краевые чипы | Нет Разрешено (длина и ширина≥0,5 мм) | ||||
Отступы | Ничего не разрешено | ||||
Царапины (Si-Face) | Кол-во.≤5, накопительный | Кол-во.≤5, накопительный | Кол-во.≤5, накопительный | ||
Трещины | Ничего не разрешено | ||||
Исключение краев | 3 мм |