Прежде всего, нам нужно знатьПЭЦВД(Плазменное химическое осаждение из паровой фазы). Плазма – это усиление теплового движения молекул материала. Столкновение между ними приведет к ионизации молекул газа, и материал станет смесью свободно движущихся положительных ионов, электронов и нейтральных частиц, которые взаимодействуют друг с другом.
Подсчитано, что коэффициент потерь света при отражении на поверхности кремния достигает около 35%. Антибликовая пленка может значительно улучшить коэффициент использования солнечного света аккумуляторной батареей, что помогает увеличить плотность фотогенерируемого тока и, таким образом, повысить эффективность преобразования. В то же время водород в пленке пассивирует поверхность аккумуляторного элемента, снижает скорость поверхностной рекомбинации эмиттерного перехода, уменьшает темновой ток, увеличивает напряжение холостого хода и повышает эффективность фотоэлектрического преобразования. Высокотемпературный мгновенный отжиг в процессе прожига разрушает некоторые связи Si-H и NH, а высвободившийся H еще больше усиливает пассивацию батареи.
Поскольку кремниевые материалы фотоэлектрического класса неизбежно содержат большое количество примесей и дефектов, время жизни неосновных носителей заряда и диффузионная длина в кремнии уменьшаются, что приводит к снижению эффективности преобразования батареи. H может реагировать с дефектами или примесями в кремнии, тем самым переводя энергетическую зону в запрещенной зоне в валентную зону или зону проводимости.
1. Принцип PECVD
Система PECVD представляет собой серию генераторов, использующихГрафитовая лодочка PECVD и высокочастотные возбудители плазмы. Генератор плазмы установлен непосредственно в середине пластины для нанесения покрытия и реагирует под низким давлением и повышенной температурой. В качестве активных газов используются силан SiH4 и аммиак NH3. Эти газы действуют на нитрид кремния, хранящийся на кремниевой пластине. Различные показатели преломления можно получить, изменяя соотношение силана и аммиака. В процессе осаждения генерируется большое количество атомов водорода и ионов водорода, что делает водородную пассивацию пластины очень хорошей. В вакууме и температуре окружающей среды 480 градусов Цельсия на поверхность кремниевой пластины наносится слой SixNy путем проведенияГрафитовая лодочка PECVD.
3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2
2. Си3Н4
Цвет пленки Si3N4 меняется в зависимости от ее толщины. Обычно идеальная толщина составляет от 75 до 80 нм и имеет темно-синий цвет. Лучше всего показатель преломления пленки Si3N4 составляет от 2,0 до 2,5. Спирт обычно используется для измерения его показателя преломления.
Превосходный эффект пассивации поверхности, эффективные оптические антибликовые характеристики (согласование показателей преломления по толщине), низкотемпературный процесс (эффективное снижение затрат), а генерируемые ионы H пассивируют поверхность кремниевой пластины.
3. Общие вопросы в цехе нанесения покрытий
Толщина пленки:
Время осаждения различно для разной толщины пленки. Время нанесения следует соответственно увеличивать или уменьшать в зависимости от цвета покрытия. Если пленка беловатая, время осаждения следует сократить. Если он красноватый, его следует соответствующим образом увеличить. Каждая партия пленок должна быть полностью подтверждена, а бракованная продукция не должна поступать в следующий процесс. Например, если покрытие плохое, например, есть цветные пятна и водяные знаки, следует вовремя выявить наиболее распространенные побеление поверхности, разницу в цвете и белые пятна на производственной линии. Побеление поверхности в основном вызвано толстой пленкой нитрида кремния, которую можно регулировать, регулируя время осаждения пленки; Цветоразностная пленка в основном вызвана закупоркой газового тракта, утечкой кварцевой трубки, отказом микроволновой печи и т. д.; белые пятна в основном вызваны небольшими черными пятнами в предыдущем процессе. Контроль отражательной способности, показателя преломления и т.п., безопасности специальных газов и т.п.
Белые пятна на поверхности:
PECVD — относительно важный процесс в солнечных элементах и важный показатель эффективности солнечных элементов компании. Процесс PECVD обычно загружен, и необходимо контролировать каждую партию клеток. Существует множество трубок печи для нанесения покрытия, и каждая трубка обычно имеет сотни ячеек (в зависимости от оборудования). После изменения параметров процесса цикл проверки длительный. Технология нанесения покрытий – это технология, которой вся фотоэлектрическая промышленность придает большое значение. Эффективность солнечных элементов можно повысить за счет совершенствования технологии нанесения покрытий. В будущем технология поверхности солнечных элементов может стать прорывом в теоретической эффективности солнечных элементов.
Время публикации: 23 декабря 2024 г.