Personalisierte Produkte – Hersteller von Graphitheizkörpern aus China

Kurzbeschreibung:

Technische Spezifikation

VET-M3

Schüttdichte (g/cm3)

≥1,85

Aschegehalt (ppm)

≤500

Shore-Härte

≥45

Spezifischer Widerstand (μΩ·m)

≤12

Biegefestigkeit (MPa)

≥40

Druckfestigkeit (MPa)

≥70

Maximale Korngröße (μm)

≤43

Wärmeausdehnungskoeffizient Mm/°C

≤4,4*10-6


Produktdetails

Produkt-Tags

Wir verfügen über modernste Produktionsanlagen, erfahrene und qualifizierte Ingenieure und Mitarbeiter, anerkannte, hochwertige Steuerungssysteme sowie ein freundliches und kompetentes Vertriebsteam für den Vor- und Nachverkaufssupport unserer kundenspezifischen Graphitheizgeräte aus China. Daher können wir die unterschiedlichsten Anfragen unserer Kunden erfüllen. Besuchen Sie unsere Webseite, um weitere Informationen zu unseren Produkten zu erhalten.
Wir verfügen über modernste Produktionsanlagen, erfahrene und qualifizierte Ingenieure und Mitarbeiter, anerkannte, hochwertige Handhabungssysteme sowie ein freundliches und kompetentes Vertriebsteam mit Vor- und Nachverkaufsbetreuung.Chinesischer Hersteller von Graphitheizkörpern und isostatischen GraphitheizkörpernWir setzen alles daran, stets die modernsten Geräte und Verfahren einzusetzen. Die Verpackung unserer Markenprodukte ist ein weiteres Alleinstellungsmerkmal. Unsere Produkte, die jahrelangen, störungsfreien Betrieb gewährleisten, haben zahlreiche Kunden überzeugt. Die Lösungen sind in verbesserten Designs und einer größeren Auswahl erhältlich und werden nach wissenschaftlichen Standards aus reinen Rohstoffen hergestellt. Sie sind in verschiedenen Ausführungen und Spezifikationen verfügbar. Die neuesten Modelle sind deutlich besser als ihre Vorgänger und erfreuen sich großer Beliebtheit bei vielen Kunden.

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der Halbleiterindustrie
Technische Spezifikation

VET-M3

Schüttdichte (g/cm3)

≥1,85

Aschegehalt (ppm)

≤500

Shore-Härte

≥45

Spezifischer Widerstand (μΩ·m)

≤12

Biegefestigkeit (MPa)

≥40

Druckfestigkeit (MPa)

≥70

Maximale Korngröße (μm)

≤43

Wärmeausdehnungskoeffizient Mm/°C

≤4,4*10-6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der Halbleiterindustrie

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der Halbleiterindustrie

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der Halbleiterindustrie

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der Halbleiterindustrie

 

 

 

 

Kundenspezifischer Graphitheizer für Siliziumwafer in der HalbleiterindustrieWir verfügen über modernste Produktionsanlagen, erfahrene und qualifizierte Ingenieure und Mitarbeiter, anerkannte, hochwertige Steuerungssysteme sowie ein freundliches und kompetentes Vertriebsteam für den Vor- und Nachverkaufssupport unserer kundenspezifischen Graphitheizgeräte aus China. Daher können wir die unterschiedlichsten Anfragen unserer Kunden erfüllen. Besuchen Sie unsere Webseite, um weitere Informationen zu unseren Produkten zu erhalten.
Personalisierte ProdukteChinesischer Hersteller von Graphitheizkörpern und isostatischen GraphitheizkörpernWir setzen alles daran, stets die modernsten Geräte und Verfahren einzusetzen. Die Verpackung unserer Markenprodukte ist ein weiteres Alleinstellungsmerkmal. Unsere Produkte, die jahrelangen, störungsfreien Betrieb gewährleisten, haben zahlreiche Kunden überzeugt. Die Lösungen sind in verbesserten Designs und einer größeren Auswahl erhältlich und werden nach wissenschaftlichen Standards aus reinen Rohstoffen hergestellt. Sie sind in verschiedenen Ausführungen und Spezifikationen verfügbar. Die neuesten Modelle sind deutlich besser als ihre Vorgänger und erfreuen sich großer Beliebtheit bei vielen Kunden.


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