VET Energy GaN na Silicon Wafer bụ ihe ngwọta semiconductor nwere ọnụ nke emebere maka ngwa ugboro redio (RF). Site na itolite gallium nitride dị elu (GaN) dị elu na mkpụrụ silicon, VET Energy na-ebuga ikpo okwu dị ọnụ ahịa yana arụmọrụ dị elu maka ọtụtụ ngwaọrụ RF.
Nke a GaN na Silicon wafer dakọtara na ihe ndị ọzọ dị ka Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, na SiN Substrate, na-agbasawanye ike ya maka usoro mmepụta dị iche iche. Na mgbakwunye, a na-ahazi ya maka iji Epi Wafer yana ihe ndị dị elu dị ka Gallium Oxide Ga2O3 na AlN Wafer, nke na-eme ka ngwa ya dịkwuo elu na ngwa eletrọnịkị dị elu. Emebere wafers maka ntinye enweghị nkebi n'ime sistemụ nrụpụta site na iji njikwa Cassette ọkọlọtọ maka ịdị mfe nke iji yana ịbawanye arụmọrụ mmepụta.
VET Energy na-enye pọtụfoliyo zuru oke nke mkpụrụ akụkụ semiconductor, gụnyere Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, na AlN Wafer. Ahịrị ngwaahịa anyị dị iche iche na-egbo mkpa ngwa eletrọnịkị dị iche iche, site na ngwa eletrọnịkị ruo RF na optoelectronics.
GaN na Silicon Wafer na-enye ọtụtụ uru maka ngwa RF:
• Ịrụ ọrụ ugboro ugboro dị elu:GaN's wide bandgap na elu eletrọn ngagharị na-eme ka ọ rụọ ọrụ ugboro ugboro, na-eme ka ọ dị mma maka 5G na sistemụ nkwukọrịta ndị ọzọ dị elu.
• Njupụta ike dị elu:Ngwaọrụ GaN nwere ike ijikwa njupụta ike dị elu ma e jiri ya tụnyere ngwaọrụ ndị dabere na silicon, na-eduga n'usoro RF kọmpat na nke ọma.
• Oriri ike dị ala:Ngwa GaN na-egosiputa oriri ike dị ala, na-ebute nrụpụta ike dị mma yana mbelata mbelata okpomọkụ.
Ngwa:
• Nkwukọrịta ikuku 5G:GaN na Silicon wafers dị mkpa maka iwulite ọdụ ụgbọ ala 5G dị elu na ngwaọrụ mkpanaka.
• Sistemụ radar:A na-eji ihe nkwuba RF dabere na GaN na sistemu radar maka arụmọrụ dị elu yana bandwit sara mbara.
• Nzikọrịta ozi satịlaịtị:Ngwa GaN na-eme ka usoro nkwukọrịta satịlaịtị dị elu na nke dị elu.
• Ngwa eletrọnịkị ndị agha:A na-eji akụrụngwa RF dabere na GaN na ngwa agha dị ka agha eletrọnịkị na sistemụ radar.
VET Energy na-enye GaN nwere ike ịhazi ya na Silicon wafers iji mezuo ihe ị chọrọ, gụnyere ọkwa doping dị iche iche, ọkpụrụkpụ na nha wafer. Ndị otu ọkachamara anyị na-enye nkwado teknụzụ na ọrụ ire ere iji hụ na ịga nke ọma gị.
Nkọwapụta WAFERING
*n-Pm=n-ụdị Pm-Grade,n-Ps=n-ụdị Ps-Grade,Sl=Ọkara ala.
Ihe | 8-anụ ọhịa | 6-anụ ọhịa | 4-anụ ọhịa | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
TTV(GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Ụta(GF3YFCD)-Uru zuru oke | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Warp(GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV(SBIR) -10mmx10mm | <2μm | ||||
Wafer Edge | Beveling |
IMEcha elu elu
*n-Pm=n-ụdị Pm-Grade,n-Ps=n-ụdị Ps-Grade,Sl=Ọkara ala.
Ihe | 8-anụ ọhịa | 6-anụ ọhịa | 4-anụ ọhịa | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
Emecha elu elu | Akụkụ abụọ Optical Polish, Si- Face CMP | ||||
Ọdịdị elu | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
ibe ibe | Ọnweghị nke ekwenyere (ogologo na obosara≥0.5mm) | ||||
Indents | Ọnweghị nke ekwenyere | ||||
Scratches (Si-Ihu) | Qty.≤5,Nchịkọta | Qty.≤5,Nchịkọta | Qty.≤5,Nchịkọta | ||
Mgbawa | Ọnweghị nke ekwenyere | ||||
Mwepu ihu | 3mm |