Susceptor de barril para epitaxia en fase líquida LPE

Susceptor de barril para epitaxia en fase líquida LPE

EPI (Epitaxia)é un proceso crítico na fabricación de semicondutores avanzados. Implica a deposición de finas capas de material sobre un substrato para crear estruturas complexas de dispositivos. Os susceptores de barril de grafito revestidos de SiC para EPI úsanse habitualmente como susceptores nos reactores EPI debido á súa excelente condutividade térmica e resistencia a altas temperaturas. ConRevestimento CVD-SiC, faise máis resistente á contaminación, á erosión e ao choque térmico. Isto ten como resultado unha vida útil máis longa para o susceptor e unha mellora da calidade da película.

Vantaxes do noso susceptor de barril para epitaxia LPE en fase líquida:
Contaminación reducida:A natureza inerte do SiC evita que as impurezas se adhiran á superficie do susceptor, reducindo o risco de contaminación das películas depositadas.
Aumento da resistencia á erosión:SiC é significativamente máis resistente á erosión que o grafito convencional, o que leva a unha vida útil máis longa para o susceptor.
Estabilidade térmica mellorada:SiC ten unha excelente condutividade térmica e pode soportar altas temperaturas sen distorsión significativa.
Calidade de película mellorada:A mellora da estabilidade térmica e a redución da contaminación dan como resultado películas depositadas de maior calidade con mellor uniformidade e control do espesor.