Sudový susceptor pro epitaxi v kapalné fázi LPE

Barelový susceptor pro epitaxi v kapalné fázi LPE

EPI (Epitaxe)je kritickým procesem při výrobě pokročilých polovodičů. Zahrnuje nanášení tenkých vrstev materiálu na substrát za účelem vytvoření složitých struktur zařízení. Susceptory z grafitového válce potažené SiC pro EPI se běžně používají jako susceptory v EPI reaktorech kvůli jejich vynikající tepelné vodivosti a odolnosti vůči vysokým teplotám. SCVD-SiC povlakstává se odolnější vůči kontaminaci, erozi a teplotním šokům. Výsledkem je delší životnost susceptoru a zlepšená kvalita filmu.

Výhody našeho barelového susceptoru pro epitaxi v kapalné fázi LPE:
Snížená kontaminace:Inertní povaha SiC zabraňuje ulpívání nečistot na povrchu susceptoru, čímž se snižuje riziko kontaminace uložených filmů.
Zvýšená odolnost proti erozi:SiC je výrazně odolnější vůči erozi než konvenční grafit, což vede k delší životnosti susceptoru.
Vylepšená tepelná stabilita:SiC má vynikající tepelnou vodivost a snese vysoké teploty bez výrazného zkreslení.
Vylepšená kvalita filmu:Zlepšená tepelná stabilita a snížená kontaminace mají za následek kvalitnější nanášené filmy se zlepšenou rovnoměrností a kontrolou tloušťky.