Epitaxní epigrafitový barelový susceptor

Epitaxní epigrafitový barelový susceptor

Epitaxní epigrafitový barelový susceptorje speciálně navržené podpůrné a topné zařízení používané k přidržování a zahřívání polovodičových substrátů během výrobních procesů, jako je depozice nebo epitaxe.

Jeho struktura zahrnuje typicky válcový nebo mírně soudkovitý tvar, povrch má více kapes nebo plošin pro umístění waferů, může být plný nebo dutý, v závislosti na způsobu ohřevu.

Hlavní funkce epitaxního barelového susceptoru:

-Podpěra substrátu: bezpečně drží více polovodičových destiček;
-Zdroj tepla: poskytuje vysoké teploty potřebné pro růst prostřednictvím zahřívání;
-Teplotní rovnoměrnost: zajišťuje rovnoměrné zahřívání substrátů;
-Rotace: obvykle se otáčí během růstu, aby se zlepšila teplota a rovnoměrnost distribuce plynu.

Princip fungování grafitového susceptoru Epi:
- V epitaxním reaktoru se barelový susceptor zahřeje na požadovanou teplotu (typicky 1000℃-1200℃ pro křemíkovou epitaxi);
-Susceptor válce se otáčí, aby bylo zajištěno rovnoměrné rozložení teploty a průtok plynu;
-Reakční plyny se při vysokých teplotách rozkládají a vytvářejí epitaxní vrstvy na povrchu substrátu.

Aplikace:
- Primárně se používá pro křemíkový epitaxní růst
- Použitelné také pro epitaxi jiných polovodičových materiálů jako GaAs, InP atd.

VET Energy používá vysoce čistý grafit s CVD-SiC povlakem pro zvýšení chemické stability:

Výhody VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

-Stabilita při vysoké teplotě;
- Dobrá tepelná rovnoměrnost;
-Může zpracovávat více substrátů současně, což zlepšuje efektivitu výroby;
-Chemicky inertní, udržující růstové prostředí s vysokou čistotou.