വാർത്ത

സിലിക്കൺ കാർബൈഡിനുള്ള സാങ്കേതിക തടസ്സങ്ങൾ എന്തൊക്കെയാണ്?Ⅱ
24-05-22-ന് അഡ്മിൻ
സുസ്ഥിരമായ പ്രകടനത്തോടെ ഉയർന്ന നിലവാരമുള്ള സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് വേഫറുകൾ സ്ഥിരമായി വൻതോതിൽ ഉൽപ്പാദിപ്പിക്കുന്നതിലെ സാങ്കേതിക ബുദ്ധിമുട്ടുകൾ ഇവയാണ്: 1) 2000 ഡിഗ്രി സെൽഷ്യസിനു മുകളിലുള്ള ഉയർന്ന താപനില സീൽ ചെയ്ത അന്തരീക്ഷത്തിൽ പരലുകൾ വളരേണ്ടതിനാൽ, താപനില നിയന്ത്രണ ആവശ്യകതകൾ വളരെ ഉയർന്നതാണ്; 2) സിലിക്കൺ കാർബൈഡിന് കൂടുതൽ ഉള്ളതിനാൽ...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
സിലിക്കൺ കാർബൈഡിന് സാങ്കേതിക തടസ്സങ്ങൾ എന്തൊക്കെയാണ്?
24-05-22-ന് അഡ്മിൻ
അർദ്ധചാലക പദാർത്ഥങ്ങളുടെ ആദ്യ തലമുറയെ പരമ്പരാഗത സിലിക്കൺ (Si), ജെർമേനിയം (Ge) എന്നിവ പ്രതിനിധീകരിക്കുന്നു, അവ ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ട് നിർമ്മാണത്തിൻ്റെ അടിസ്ഥാനമാണ്. ലോ-വോൾട്ടേജ്, ലോ-ഫ്രീക്വൻസി, ലോ-പവർ ട്രാൻസിസ്റ്ററുകളിലും ഡിറ്റക്ടറുകളിലും അവ വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു. അർദ്ധചാലക ഉൽപന്നത്തിൻ്റെ 90 ശതമാനത്തിലധികം...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
എങ്ങനെയാണ് SiC മൈക്രോ പൗഡർ നിർമ്മിക്കുന്നത്?
24-05-13-ന് അഡ്മിൻ മുഖേന
SiC സിംഗിൾ ക്രിസ്റ്റൽ എന്നത് 1:1 എന്ന സ്റ്റോയ്ചിയോമെട്രിക് അനുപാതത്തിൽ Si, C എന്നീ രണ്ട് മൂലകങ്ങൾ ചേർന്ന ഒരു ഗ്രൂപ്പ് IV-IV സംയുക്ത അർദ്ധചാലക വസ്തുവാണ്. അതിൻ്റെ കാഠിന്യം വജ്രത്തിന് തൊട്ടുപിന്നാലെയാണ്. SiC തയ്യാറാക്കുന്നതിനുള്ള സിലിക്കൺ ഓക്സൈഡ് രീതിയുടെ കാർബൺ കുറയ്ക്കൽ പ്രധാനമായും ഇനിപ്പറയുന്ന രാസപ്രവർത്തന ഫോർമുലയെ അടിസ്ഥാനമാക്കിയുള്ളതാണ്...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
എപ്പിറ്റാക്സിയൽ പാളികൾ അർദ്ധചാലക ഉപകരണങ്ങളെ എങ്ങനെ സഹായിക്കുന്നു?
24-05-13-ന് അഡ്മിൻ മുഖേന
എപ്പിറ്റാക്സിയൽ വേഫർ എന്ന പേരിൻ്റെ ഉത്ഭവം ആദ്യം, നമുക്ക് ഒരു ചെറിയ ആശയം ജനകീയമാക്കാം: വേഫർ തയ്യാറാക്കലിൽ രണ്ട് പ്രധാന ലിങ്കുകൾ ഉൾപ്പെടുന്നു: സബ്‌സ്‌ട്രേറ്റ് തയ്യാറാക്കലും എപ്പിടാക്‌സിയൽ പ്രക്രിയയും. അർദ്ധചാലക സിംഗിൾ ക്രിസ്റ്റൽ മെറ്റീരിയൽ കൊണ്ട് നിർമ്മിച്ച ഒരു വേഫറാണ് അടിവസ്ത്രം. അടിവസ്ത്രത്തിന് നേരിട്ട് വേഫർ നിർമ്മാണത്തിലേക്ക് പ്രവേശിക്കാൻ കഴിയും...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
കെമിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ (സിവിഡി) തിൻ ഫിലിം ഡിപ്പോസിഷൻ ടെക്നോളജിയുടെ ആമുഖം
24-05-06-ന് അഡ്മിൻ
കെമിക്കൽ വേപ്പർ ഡിപ്പോസിഷൻ (സിവിഡി) ഒരു പ്രധാന നേർത്ത ഫിലിം ഡിപ്പോസിഷൻ സാങ്കേതികവിദ്യയാണ്, ഇത് പലപ്പോഴും വിവിധ ഫങ്ഷണൽ ഫിലിമുകളും നേർത്ത പാളികളും തയ്യാറാക്കാൻ ഉപയോഗിക്കുന്നു, അർദ്ധചാലക നിർമ്മാണത്തിലും മറ്റ് മേഖലകളിലും ഇത് വ്യാപകമായി ഉപയോഗിക്കുന്നു. 1. CVD യുടെ പ്രവർത്തന തത്വം CVD പ്രക്രിയയിൽ, ഒരു വാതക മുൻഗാമി (ഒന്നോ മാസമോ...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
ഫോട്ടോവോൾട്ടെയ്ക് അർദ്ധചാലക വ്യവസായത്തിന് പിന്നിലെ "കറുത്ത സ്വർണ്ണം" രഹസ്യം: ഐസോസ്റ്റാറ്റിക് ഗ്രാഫൈറ്റിൻ്റെ ആഗ്രഹവും ആശ്രിതത്വവും
24-05-06-ന് അഡ്മിൻ
ഫോട്ടോവോൾട്ടെയ്‌ക്കുകളിലും അർദ്ധചാലകങ്ങളിലും ഐസോസ്റ്റാറ്റിക് ഗ്രാഫൈറ്റ് വളരെ പ്രധാനപ്പെട്ട ഒരു വസ്തുവാണ്. ആഭ്യന്തര ഐസോസ്റ്റാറ്റിക് ഗ്രാഫൈറ്റ് കമ്പനികളുടെ അതിവേഗ വളർച്ചയോടെ, ചൈനയിലെ വിദേശ കമ്പനികളുടെ കുത്തക തകർന്നു. തുടർച്ചയായ സ്വതന്ത്ര ഗവേഷണവും വികസനവും സാങ്കേതിക മുന്നേറ്റങ്ങളും കൊണ്ട്, ...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
സെമികണ്ടക്ടർ സെറാമിക്സ് നിർമ്മാണത്തിൽ ഗ്രാഫൈറ്റ് ബോട്ടുകളുടെ അവശ്യ സവിശേഷതകൾ അനാവരണം ചെയ്യുന്നു
24-04-22-ന് അഡ്മിൻ
ഗ്രാഫൈറ്റ് ബോട്ടുകൾ എന്നും അറിയപ്പെടുന്ന ഗ്രാഫൈറ്റ് ബോട്ടുകൾ, സെമികണ്ടക്ടർ സെറാമിക്സ് നിർമ്മാണത്തിലെ സങ്കീർണ്ണമായ പ്രക്രിയകളിൽ നിർണായക പങ്ക് വഹിക്കുന്നു. കൃത്യമായതും നിയന്ത്രിതവുമായ പ്രോസസ്സിംഗ് ഉറപ്പാക്കിക്കൊണ്ട് ഉയർന്ന താപനിലയുള്ള ചികിത്സകളിൽ അർദ്ധചാലക വേഫറുകളുടെ വിശ്വസനീയമായ വാഹകരായി ഈ പ്രത്യേക പാത്രങ്ങൾ പ്രവർത്തിക്കുന്നു. കൂടെ...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
ഫർണസ് ട്യൂബ് ഉപകരണങ്ങളുടെ ആന്തരിക ഘടന വിശദമായി വിവരിക്കുന്നു
24-04-22-ന് അഡ്മിൻ
മുകളിൽ കാണിച്ചിരിക്കുന്നതുപോലെ, ഒരു സാധാരണ ആദ്യ പകുതി: ഹീറ്റിംഗ് എലമെൻ്റ് (ഹീറ്റിംഗ് കോയിൽ) : ചൂള ട്യൂബിന് ചുറ്റും സ്ഥിതിചെയ്യുന്നു, സാധാരണയായി ചൂള ട്യൂബിൻ്റെ ഉള്ളിൽ ചൂടാക്കാൻ ഉപയോഗിക്കുന്ന പ്രതിരോധ വയറുകൾ കൊണ്ട് നിർമ്മിച്ചതാണ്. ക്വാർട്‌സ് ട്യൂബ്: ചൂടുള്ള ഓക്‌സിഡേഷൻ ചൂളയുടെ കാമ്പ്, ഉയർന്ന ശുദ്ധിയുള്ള ക്വാർട്‌സ് കൊണ്ട് നിർമ്മിച്ചതാണ്, അത് ഉയർന്ന നിലയെ നേരിടാൻ കഴിയും...
കൂടുതൽ വായിക്കുക
MOSFET ഉപകരണ സവിശേഷതകളിൽ SiC സബ്‌സ്‌ട്രേറ്റിൻ്റെയും എപ്പിടാക്‌സിയൽ മെറ്റീരിയലുകളുടെയും ഫലങ്ങൾ
24-04-16-ന് അഡ്മിൻ
ത്രികോണ വൈകല്യങ്ങൾ SiC എപ്പിറ്റാക്സിയൽ പാളികളിലെ ഏറ്റവും മാരകമായ രൂപാന്തര വൈകല്യങ്ങളാണ്. ത്രികോണ വൈകല്യങ്ങളുടെ രൂപീകരണം 3C ക്രിസ്റ്റൽ രൂപവുമായി ബന്ധപ്പെട്ടതാണെന്ന് ധാരാളം സാഹിത്യ റിപ്പോർട്ടുകൾ കാണിക്കുന്നു. എന്നിരുന്നാലും, വ്യത്യസ്‌ത വളർച്ചാ സംവിധാനങ്ങൾ കാരണം, പല ട്രിഫുകളുടെയും രൂപഘടന...
കൂടുതൽ വായിക്കുക