അർദ്ധചാലക ഫീൽഡിൽ സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക്സിൻ്റെ പ്രയോഗം

ഫോട്ടോലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനുകളുടെ കൃത്യമായ ഭാഗങ്ങൾക്കായി തിരഞ്ഞെടുത്ത മെറ്റീരിയൽ

അർദ്ധചാലക മേഖലയിൽ,സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക്സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് വർക്ക് ടേബിൾ, ഗൈഡ് റെയിലുകൾ തുടങ്ങിയ ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ട് നിർമ്മാണത്തിനുള്ള പ്രധാന ഉപകരണങ്ങളിൽ മെറ്റീരിയലുകൾ പ്രധാനമായും ഉപയോഗിക്കുന്നു.റിഫ്ലക്ടറുകൾ, സെറാമിക് സക്ഷൻ ചക്ക്, ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനുകൾക്കുള്ള ആയുധങ്ങൾ, ഗ്രൈൻഡിംഗ് ഡിസ്കുകൾ, ഫിക്ചറുകൾ മുതലായവ.

സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ഭാഗങ്ങൾഅർദ്ധചാലകത്തിനും ഒപ്റ്റിക്കൽ ഉപകരണങ്ങൾക്കും

● സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ഗ്രൈൻഡിംഗ് ഡിസ്ക്. ഗ്രൈൻഡിംഗ് ഡിസ്ക് കാസ്റ്റ് ഇരുമ്പ് അല്ലെങ്കിൽ കാർബൺ സ്റ്റീൽ കൊണ്ടാണ് നിർമ്മിച്ചതെങ്കിൽ, അതിൻ്റെ സേവന ജീവിതം ചെറുതും താപ വിപുലീകരണ ഗുണകം വലുതുമാണ്. സിലിക്കൺ വേഫറുകളുടെ പ്രോസസ്സിംഗ് സമയത്ത്, പ്രത്യേകിച്ച് ഹൈ-സ്പീഡ് ഗ്രൈൻഡിംഗ് അല്ലെങ്കിൽ പോളിഷിംഗ് സമയത്ത്, ഗ്രൈൻഡിംഗ് ഡിസ്കിൻ്റെ തേയ്മാനവും താപ രൂപഭേദവും സിലിക്കൺ വേഫറിൻ്റെ പരന്നതും സമാന്തരതയും ഉറപ്പാക്കുന്നത് ബുദ്ധിമുട്ടാക്കുന്നു. സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക്സ് കൊണ്ട് നിർമ്മിച്ച ഗ്രൈൻഡിംഗ് ഡിസ്കിന് ഉയർന്ന കാഠിന്യവും കുറഞ്ഞ വസ്ത്രവും ഉണ്ട്, കൂടാതെ താപ വികാസ ഗുണകം അടിസ്ഥാനപരമായി സിലിക്കൺ വേഫറുകളുടേതിന് സമാനമാണ്, അതിനാൽ ഇത് ഉയർന്ന വേഗതയിൽ പൊടിച്ച് മിനുക്കിയെടുക്കാൻ കഴിയും.
● സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ഫിക്ചർ. കൂടാതെ, സിലിക്കൺ വേഫറുകൾ നിർമ്മിക്കപ്പെടുമ്പോൾ, അവ ഉയർന്ന താപനിലയുള്ള ചൂട് ചികിത്സയ്ക്ക് വിധേയമാക്കേണ്ടതുണ്ട്, കൂടാതെ പലപ്പോഴും സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് ഫിക്ചറുകൾ ഉപയോഗിച്ച് കൊണ്ടുപോകുകയും ചെയ്യുന്നു. അവ ചൂട് പ്രതിരോധശേഷിയുള്ളതും നശിപ്പിക്കാത്തതുമാണ്. വജ്രം പോലെയുള്ള കാർബണും (DLC) മറ്റ് കോട്ടിംഗുകളും ഉപരിതലത്തിൽ പ്രയോഗിച്ച് പ്രകടനം മെച്ചപ്പെടുത്താനും വേഫർ കേടുപാടുകൾ ലഘൂകരിക്കാനും മലിനീകരണം പടരുന്നത് തടയാനും കഴിയും.
● സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് വർക്ക്ടേബിൾ. ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനിലെ വർക്ക്‌ടേബിൾ ഒരു ഉദാഹരണമായി എടുത്താൽ, എക്‌സ്‌പോഷർ മൂവ്‌മെൻ്റ് പൂർത്തിയാക്കുന്നതിന് വർക്ക്‌ടേബിൾ പ്രധാനമായും ഉത്തരവാദിയാണ്, ഉയർന്ന വേഗത, വലിയ സ്‌ട്രോക്ക്, ആറ് ഡിഗ്രി-ഓഫ്-ഫ്രീഡം നാനോ-ലെവൽ അൾട്രാ-പ്രിസിഷൻ മൂവ്‌മെൻ്റ് ആവശ്യമാണ്. ഉദാഹരണത്തിന്, 100nm റെസല്യൂഷനും 33nm ഓവർലേ കൃത്യതയും 10nm ലൈൻ വീതിയുമുള്ള ഒരു ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീന്, 10nm-ൽ എത്താൻ വർക്ക്ടേബിൾ പൊസിഷനിംഗ് കൃത്യത ആവശ്യമാണ്, മാസ്ക്-സിലിക്കൺ വേഫർ ഒരേസമയം സ്റ്റെപ്പിംഗും സ്കാനിംഗ് വേഗതയും 150nm/s ആണ്. കൂടാതെ യഥാക്രമം 120nm/s, മാസ്ക് സ്കാനിംഗ് വേഗത അടുത്താണ് 500nm/s, വർക്ക്ടേബിളിന് വളരെ ഉയർന്ന ചലന കൃത്യതയും സ്ഥിരതയും ആവശ്യമാണ്.

വർക്ക്ടേബിളിൻ്റെയും മൈക്രോ-മോഷൻ ടേബിളിൻ്റെയും സ്കീമാറ്റിക് ഡയഗ്രം (ഭാഗിക വിഭാഗം)

● സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് സ്ക്വയർ മിറർ. ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനുകൾ പോലുള്ള പ്രധാന ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ട് ഉപകരണങ്ങളിലെ പ്രധാന ഘടകങ്ങൾക്ക് സങ്കീർണ്ണമായ ആകൃതികളും സങ്കീർണ്ണമായ അളവുകളും പൊള്ളയായ ഭാരം കുറഞ്ഞ ഘടനകളുമുണ്ട്, ഇത് അത്തരം സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് ഘടകങ്ങൾ തയ്യാറാക്കുന്നത് ബുദ്ധിമുട്ടാക്കുന്നു. നിലവിൽ, നെതർലാൻഡിലെ ASML, ജപ്പാനിലെ NIKON, CANON തുടങ്ങിയ മുഖ്യധാരാ ഇൻ്റർനാഷണൽ ഇൻ്റഗ്രേറ്റഡ് സർക്യൂട്ട് ഉപകരണ നിർമ്മാതാക്കൾ, ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനുകളുടെ പ്രധാന ഘടകങ്ങളായ ചതുരാകൃതിയിലുള്ള കണ്ണാടികൾ തയ്യാറാക്കാനും സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് ഉപയോഗിക്കാനും മൈക്രോക്രിസ്റ്റലിൻ ഗ്ലാസ്, കോർഡറൈറ്റ് തുടങ്ങിയ വലിയ അളവിലുള്ള വസ്തുക്കൾ ഉപയോഗിക്കുന്നു. ലളിതമായ ആകൃതികളുള്ള മറ്റ് ഉയർന്ന പ്രകടനമുള്ള ഘടനാപരമായ ഘടകങ്ങൾ തയ്യാറാക്കുന്നതിനുള്ള സെറാമിക്സ്. എന്നിരുന്നാലും, ചൈന ബിൽഡിംഗ് മെറ്റീരിയൽസ് റിസർച്ച് ഇൻസ്റ്റിറ്റ്യൂട്ടിലെ വിദഗ്ധർ ലിത്തോഗ്രാഫി മെഷീനുകൾക്കായി വലിയ വലിപ്പവും സങ്കീർണ്ണമായ ആകൃതിയിലുള്ളതും വളരെ ഭാരം കുറഞ്ഞതും പൂർണ്ണമായും അടച്ച സിലിക്കൺ കാർബൈഡ് സെറാമിക് സ്ക്വയർ മിററുകളും മറ്റ് ഘടനാപരവും പ്രവർത്തനപരവുമായ ഒപ്റ്റിക്കൽ ഘടകങ്ങളും തയ്യാറാക്കാൻ കുത്തക തയ്യാറെടുപ്പ് സാങ്കേതികവിദ്യ ഉപയോഗിച്ചു.