応用分野
製品の用途と性能 製品の用途と用途
Si単結晶産業、GaN、AlN、サファイアおよびその他のMOCVDペデスタル。 -単結晶シリコンエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティング
主な性能:高純度、耐侵食性、高熱伝導率、MOCVDプロセス、GaNエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティング
高温耐性、低い熱膨張係数。
熱伝導率 | 250W/m°K | レーザーフラッシュ方式、RT |
熱膨張 (CTE) | 4.5×10-6°K | 室温~950 °C、シリカ膨張計 |
財産 | 価値 | 方法 |
密度 | 3.21g/cc | 浮き浮きと寸法 |
比熱 | 0.66J/g°K | パルスレーザーフラッシュ |
曲げ強度 | 450MPa560MPa | 4点曲げ、RT4点曲げ、1300° |
破壊靱性 | 2.94MPa・m1/2 | マイクロインデント |
硬度 | 2800 | ビッカーズ、500g荷重 |
弾性率ヤング率 | 450GPa430GPa | 4 ポイントベンド、RT4 ポイントベンド、1300 °C |
粒度 | 2~10μm | SEM |
純度、SEM構造、厚さ分析SiCコーティング
CVDを使用したグラファイト上のSiCコーティングの純度は99.9995%にも達します。その構造は fcc です。グラファイト上にコーティングされた SiC フィルムは、XRD データ (図 1) に示されているように (111) 配向しており、その高い結晶品質を示しています。図2に示すように、SiC膜の厚さは非常に均一です。
単結晶シリコンエピタキシャルベース
製品の性能と用途の見通し。
炭化ケイ素(SiC)コーティングベースは、エピタキシー炉のコアコンポーネントである単結晶シリコンおよび GaN エピタキシーに最適なベースです。ベースは、大規模集積回路用の単結晶シリコンの重要な製造アクセサリです。高純度、耐高温性、耐食性、気密性など優れた材料特性を持っています。
製品の用途と使用方法
単結晶シリコンエピタキシャル成長用グラファイトベースコーティングAixtronマシンなどに適しています。コーティング厚さ:90〜150μm。ウェーハクレーターの直径は55mmです。
私たちを選ぶ理由
プロフェッショナルな機器とチーム
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クイックサービス
注文前のタグについては、当社の専門営業チームが営業時間内であれば 50 ~ 100 分以内、営業時間外であれば 12 時間以内にお問い合わせに回答します。迅速かつプロフェッショナルな返答は、高効率で完璧なオプションを提供してクライアントを獲得するのに役立ちます。
注文実行段階では、当社の専門サービスチームが 3 ~ 5 日ごとに写真を撮り、生産状況の直接情報を更新し、出荷の進捗状況を更新するための文書を 36 時間以内に提供します。アフターサービスにも細心の注意を払っております。
販売後の段階では、当社のサービスチームは常にお客様と緊密に連絡を取り合い、常にお客様のサービスを待機しています。当社のプロフェッショナルなアフターサービスには、現場での問題解決を支援するフライングエンジニアも含まれています。当社の保証は納品後12ヶ月です。
梱包詳細
よくある質問
はい、すべての海外からの注文には継続的な最小注文数量を設定する必要があります。
はい、分析証明書/適合性証明書を含むほとんどの文書を提供できます。保険;原産地および必要に応じてその他の輸出書類。
サンプルの場合、納期は約7日となります。大量生産の場合、リードタイムはデポジットの支払いを受け取ってから15〜25日です。リードタイムは、お客様からの入金を受領し、お客様から製品の最終承認が得られた時点で有効になります。どのような場合でも、お客様のニーズに対応できるよう努めます。ほとんどの場合、それが可能です。
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30%の事前デポジット、出荷前またはB/Lのコピーに対して70%の残高。
当社は素材と仕上がりを保証します。当社の取り組みは、お客様に当社の製品にご満足いただくことです。保証の有無に関わらず、すべての顧客の問題に対処し、全員が満足できるよう解決することが当社の文化です。
はい、私たちは常に高品質の輸出用梱包材を使用しています。また、危険品には専門の危険物梱包を使用し、温度に敏感な商品には認定された冷蔵配送業者を使用します。専門的な梱包および標準以外の梱包要件には追加料金が発生する場合があります。
送料は選択した商品の受け取り方法によって異なります。通常、エクスプレスは最も早い方法ですが、最も高価な方法でもあります。大量の場合は船便が最適です。正確な運賃は、金額、重量、方法の詳細がわかっている場合にのみ提供できます。詳細についてはお問い合わせください。
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