Kumukuai haahaa loa no Kina High Quality Customized Graphite Heater for Polycrystalline Silicon Ingot Furnace

ʻO ka wehewehe pōkole:

Maʻemaʻe <5ppm
‣ Hoʻohui like doping maikaʻi
‣ Kiʻekiʻe kiʻekiʻe a pili
‣ ʻO ka pale anti-corrosive maikaʻi a me ke kalapona

‣ Hoʻoponopono ʻoihana
‣ He manawa alakaʻi pōkole
‣ lako paʻa
‣ Ka mālama maikaʻi a me ka hoʻomaikaʻi mau

Epitaxy o GaN ma Sapphire(RGB / Mini / Micro LED);Epitaxy o GaN ma Si Substrate(UVC);Epitaxy o GaN ma Si Substrate(Electronical Device);Epitaxy o Si ma Si substrate(Kaapuni hoʻohui);Epitaxy o SiC ma ka SiC substrate(Pula;Epitaxy o InP ma InP


Huahana Huahana

Huahana Huahana

Ke hoʻomau nei mākou i ka hoʻonui a me ka hoʻomaʻamaʻa ʻana i kā mākou hoʻonā a me ka lawelawe. I ka manawa like, ke hana ikaika nei mākou e hana i ka noiʻi a me ka hoʻonui ʻana no ke kumu kūʻai haʻahaʻa loa no Kina High Quality Customized Graphite Heater for Polycrystalline Silicon Ingot Furnace, ua ulu koke kā mākou ʻoihana i ka nui a me ka kaulana no kona hoʻolaʻa piha ʻana i ka hana kiʻekiʻe, ke kumu kūʻai nui o nā huahana a me nā mea kūʻai aku maikaʻi.
Ke hoʻomau nei mākou i ka hoʻonui a me ka hoʻomaʻamaʻa ʻana i kā mākou hoʻonā a me ka lawelawe. Ma ka manawa like, hana ikaika mākou e hana i ka noiʻi a me ka hoʻonui ʻana noIpu Pumehana Graphite Kina, Kihapai Thermal Graphite, No ka hoʻokō ʻana i ka huahana maikaʻi maikaʻi e hoʻokō i ka makemake o ka mea kūʻai aku, ua nānā pono ʻia kā mākou huahana āpau a me nā hoʻonā ma mua o ka hoʻouna ʻana. Manaʻo mau mākou i ka nīnau ma ka ʻaoʻao o nā mea kūʻai aku, no ka mea lanakila ʻoe, lanakila mākou!

2022 kiʻekiʻe MOCVD Susceptor Kūʻai pūnaewele ma Kina

 

ʻIke ʻia ka mānoanoa: 1.85 g/cm3
Ke kū'ē uila: 11 μΩm
ʻO ke koʻikoʻi ʻoluʻolu: 49 MPa (500kgf/cm2)
Paʻa Paʻa: 58
lehu: <5ppm
ʻO ka wela wela: 116 W/mK (100 kcal/mhr- ℃)

ʻO ka wafer kahi ʻāpana silika ma kahi o 1 millimeter ka mānoanoa he ʻili palahalaha loa no nā kaʻina hana i koi nui ʻia. ʻO ka hoʻohana hope ʻana e hoʻoholo i ke kaʻina hana ulu kristal e hoʻohana ʻia. Ma ke kaʻina hana Czochralski, no ka laʻana, ua hoʻoheheʻe ʻia ka silikoni polycrystalline a ua hoʻoheheʻe ʻia kahi aniani ʻanoʻano penikala i loko o ka silikoni hoʻoheheʻe ʻia. A laila, hoʻohuli ʻia ke aniani hua a huki mālie i luna. ʻO kahi colossus kaumaha loa, he monocrystal, nā hopena. Hiki ke koho i nā hiʻohiʻona uila o ka monocrystal ma ka hoʻohui ʻana i nā ʻāpana liʻiliʻi o nā dopants maʻemaʻe kiʻekiʻe. Hoʻopili ʻia nā kristal e like me nā kikoʻī o ka mea kūʻai aku a laila hoʻoliʻi ʻia a ʻokiʻoki i nā ʻāpana. Ma hope o nā ʻanuʻu hana hou aʻe, loaʻa i ka mea kūʻai aku kāna mau wafers i hōʻike ʻia i loko o kahi pahu kūikawā, e hiki ai i ka mea kūʻai ke hoʻohana koke i ka wafer i kāna laina hana.

2

Pono e hele ka wafer ma mua o ka mākaukau no ka hoʻohana ʻana i nā mea uila. ʻO kekahi kaʻina hana koʻikoʻi ʻo ka epitaxy silika, kahi e lawe ʻia ai nā wafers ma luna o nā susceptors graphite. ʻO nā waiwai a me ka maikaʻi o nā susceptors he hopena koʻikoʻi i ka maikaʻi o ka papa epitaxial o ka wafer.

No nā ʻāpana hoʻomoe kiʻiʻoniʻoni lahilahi e like me ka epitaxy a i ʻole MOCVD, hāʻawi ʻo VET i nā mea hana graphite ultra-maemaʻe i hoʻohana ʻia e kākoʻo i nā substrate a i ʻole "wafers". Ma ke kumu o ke kaʻina hana, ʻo kēia mau mea hana, epitaxy susceptors a i ʻole nā ​​​​pae satellite no ka MOCVD, e kau mua ʻia i ke kaiapuni deposition:

Kiʻekiʻe wela.
Māmā kiʻekiʻe.
Ka hoʻohana ʻana i nā mea hoʻokele kinoea.
Zero contamination, nele o ka ihi.
Ke kū'ē i nā waikawa ikaika i ka wā e hoʻomaʻemaʻe ai


  • Mua:
  • Aʻe:

  • WhatsApp kamaʻilio pūnaewele!