Questa Wafer SiC di 6 Inch N Type hè stata progettata per un rendimentu rinfurzatu in cundizioni estremi, facendu una scelta ideale per l'applicazioni chì necessitanu una alta putenza è resistenza à a temperatura. I prudutti chjave assuciati cù questa wafer include Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer è SiN Substrate. Questi materiali assicuranu un rendimentu ottimale in una varietà di prucessi di fabricazione di semiconduttori, chì permettenu i dispositi chì sò à tempu efficienti in energia è durable.
Per l'imprese chì travaglianu cù Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, Cassette, o AlN Wafer, VET Energy's 6 Inch N Type SiC Wafer furnisce a basa necessaria per u sviluppu di prudutti innovatori. Ch'ella sia in l'elettronica d'alta putenza o l'ultime tecnulugia RF, queste wafers assicuranu un'eccellente conduttività è una resistenza termica minima, spinghjendu i limiti di efficienza è prestazione.
SPECIFICAZIONI WAFERING
*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante
Articulu | 8-inch | 6-inch | 4-inch | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤ 6um | ≤ 6um | |||
Arcu (GF3YFCD) - Valore assolutu | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Warp (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2μm | ||||
Wafer Edge | Bisellu |
FINITURA DI SUPERFICIE
*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante
Articulu | 8-inch | 6-inch | 4-inch | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
Finitura di a superficia | Lucidatura ottica doppia faccia, Si-Face CMP | ||||
Rugosità di a superficia | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Chips Edge | Nisunu permessu (lunghezza è larghezza ≥ 0,5 mm) | ||||
Indentati | Nisunu permessu | ||||
Scratchs (Si-Face) | Qty.≤5, Cumulative | Qty.≤5, Cumulative | Qty.≤5, Cumulative | ||
Cracks | Nisunu permessu | ||||
Exclusion Edge | 3 mm |