Wafer SiC di 6 Inch N Type

Breve descrizzione:

U 6 Inch N Type SiC Wafer da VET Energy hè un sustrato d'altu rendiment cuncepitu per applicazioni avanzate di semiconduttori, chì offre una conducibilità termica superiore è efficienza energetica. VET Energy utilizza a tecnulugia di punta per pruduce wafers di alta qualità chì risponde à e rigorose esigenze di l'elettronica muderna, assicurendu affidabilità è durabilità in i dispositi di putenza.


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Questa Wafer SiC di 6 Inch N Type hè stata progettata per un rendimentu rinfurzatu in cundizioni estremi, facendu una scelta ideale per l'applicazioni chì necessitanu una alta putenza è resistenza à a temperatura. I prudutti chjave assuciati cù questa wafer include Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer è SiN Substrate. Questi materiali assicuranu un rendimentu ottimale in una varietà di prucessi di fabricazione di semiconduttori, chì permettenu i dispositi chì sò à tempu efficienti in energia è durable.

Per l'imprese chì travaglianu cù Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, Cassette, o AlN Wafer, VET Energy's 6 Inch N Type SiC Wafer furnisce a basa necessaria per u sviluppu di prudutti innovatori. Ch'ella sia in l'elettronica d'alta putenza o l'ultime tecnulugia RF, queste wafers assicuranu un'eccellente conduttività è una resistenza termica minima, spinghjendu i limiti di efficienza è prestazione.

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SPECIFICAZIONI WAFERING

*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante

Articulu

8-inch

6-inch

4-inch

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

TTV (GBIR)

≤ 6um

≤ 6um

Arcu (GF3YFCD) - Valore assolutu

≤15μm

≤15μm

≤25μm

≤15μm

Warp (GF3YFER)

≤25μm

≤25μm

≤40μm

≤25μm

LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm

<2μm

Wafer Edge

Bisellu

FINITURA DI SUPERFICIE

*n-Pm=n-type Pm-Grade, n-Ps=n-tipu Ps-Grade, Sl=Semi-isolante

Articulu

8-inch

6-inch

4-inch

nP

n-Pm

n-Ps

SI

SI

Finitura di a superficia

Lucido ottico doppia faccia, Si-Face CMP

Rugosità di a superficia

(10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm
C-Face Ra≤ 0,5 nm

(5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm
C-Face Ra≤0.5nm

Chips Edge

Nisunu permessu (lunghezza è larghezza ≥ 0,5 mm)

Indentati

Nisunu permessu

Scratchs (Si-Face)

Qty.≤5, Cumulative
Length≤0.5 × diametru di wafer

Qty.≤5, Cumulative
Length≤0.5 × diametru di wafer

Qty.≤5, Cumulative
Length≤0.5 × diametru di wafer

Cracks

Nisunu permessu

Exclusion di Edge

3 mm

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