Epit Wax GaN dựa trên silicon

Mô tả ngắn gọn:


  • Nơi xuất xứ:Trung Quốc
  • Cấu trúc tinh thể:FCCβpha
  • Tỉ trọng:3,21 g/cm
  • độ cứng:2500 Vickers
  • Kích thước hạt:2 ~ 10μm
  • Độ tinh khiết hóa học:99,99995%
  • Công suất nhiệt:640J·kg-1·K-1
  • Nhiệt độ thăng hoa:2700oC
  • Sức mạnh Felexural:415 Mpa (RT 4 điểm)
  • Mô đun của Young:430 Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC)
  • Giãn nở nhiệt (CTE):4.5 10-6K-1
  • Độ dẫn nhiệt:300 (W/mK)
  • Chi tiết sản phẩm

    Thẻ sản phẩm

    Mô tả sản phẩm

    Công ty chúng tôi cung cấp dịch vụ xử lý lớp phủ SiC bằng phương pháp CVD trên bề mặt than chì, gốm sứ và các vật liệu khác, để các khí đặc biệt chứa carbon và silicon phản ứng ở nhiệt độ cao để thu được các phân tử SiC có độ tinh khiết cao, các phân tử lắng đọng trên bề mặt vật liệu phủ, hình thành lớp bảo vệ SIC.

    Các tính năng chính:

    1. Khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao:

    khả năng chống oxy hóa vẫn rất tốt khi nhiệt độ cao tới 1600 C.

    2. Độ tinh khiết cao: được tạo ra bằng cách lắng đọng hơi hóa học trong điều kiện khử trùng bằng clo ở nhiệt độ cao.

    3. Chống xói mòn: độ cứng cao, bề mặt nhỏ gọn, hạt mịn.

    4. Chống ăn mòn: thuốc thử axit, kiềm, muối và hữu cơ.

    Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC

    Thuộc tính SiC-CVD

    Cấu trúc tinh thể Giai đoạn FCC
    Tỉ trọng g/cm³ 3,21
    độ cứng Độ cứng Vickers 2500
    Kích thước hạt mm 2~10
    Độ tinh khiết hóa học % 99.99995
    Công suất nhiệt J·kg-1 ·K-1 640
    Nhiệt độ thăng hoa oC 2700
    Sức mạnh cảm giác MPa (RT 4 điểm) 415
    Mô-đun của Young Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) 430
    Giãn nở nhiệt (CTE) 10-6K-1 4,5
    Độ dẫn nhiệt (W/mK) 300

     

    1 2 3 4 5 6 7 8 9


  • Trước:
  • Kế tiếp:

  • Trò chuyện trực tuyến WhatsApp!