Som visas ovan, är en typisk
Första halvan:
Värmeelement (värmeslinga): placerat runt ugnsröret, vanligtvis tillverkat av motståndstrådar, som används för att värma insidan av ugnsröret.
Kvartsrör: Kärnan i en varm oxidationsugn, gjord av kvarts med hög renhet som tål höga temperaturer och förblir kemiskt inert.
Gasmatning: Beläget på ovansidan eller sidan av ugnsröret, används det för att transportera syre eller andra gaser till insidan av ugnsröret.
SS-fläns: komponenter som förbinder kvartsrör och gasledningar, vilket säkerställer anslutningens täthet och stabilitet.
Gasmatningsledningar: Rör som ansluter MFC:n till gastillförselporten för gasöverföring.
MFC (Mass Flow Controller) : En enhet som styr gasflödet inuti ett kvartsrör för att exakt reglera mängden gas som krävs.
Ventilation: Används för att ventilera avgaserna från insidan av ugnsröret till utsidan av utrustningen.
Nedre del
Kiselwafers i hållare: Kiselwafers är inrymda i en speciell hållare för att säkerställa jämn värme under oxidation.
Waferhållare: Används för att hålla kvar kiselskivan och säkerställa att kiselskivan förblir stabil under processen.
Piedestal: En struktur som håller en kiselwaferhållare, vanligtvis gjord av ett högtemperaturbeständigt material.
Hiss: Används för att lyfta waferhållare in i och ut ur kvartsrör för automatisk laddning och lossning av kiselwafers.
Wafer Transfer Robot: placerad på sidan av ugnsrörsanordningen används den för att automatiskt ta bort kiselskivan från lådan och placera den i ugnsröret, eller ta bort den efter bearbetning.
Kassettlagringskarusell: Kassettförvaringskarusell används för att förvara en låda som innehåller kiselskivor och kan roteras för att komma åt roboten.
Wafer Cassette: waferkassett används för att lagra och överföra kiselwafers som ska bearbetas.
Posttid: 2024-apr-22