Graphite Substrate Wafer Hållare för PECVD

Graphite Substrate Wafer Holder för PECVD Featured Image

Kort beskrivning:

VET Energys grafitsubstrathållare är konstruerad för att bibehålla waferinriktning och stabilitet under hela PECVD-processen, förhindra kontaminering och minimera risken för skador. Graphite Wafer Holder ger en säker, jämn plattform som säkerställer att wafers är jämnt exponerade för plasman för konsekvent och högkvalitativ deponering. Med sin höga värmeledningsförmåga och exceptionella styrka hjälper denna hållare till att förbättra den totala processeffektiviteten och produktens prestanda.

Skicka e-post till oss Ladda ner som PDF

Produktdetaljer

Produkttaggar

VET Energy Graphite Substrate Wafer Holder är en precisionsbärare designad för PECVD-processen (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Denna högkvalitativa grafitsubstrathållare är gjord av högrent grafitmaterial med hög densitet, med utmärkt högtemperaturbeständighet, korrosionsbeständighet, dimensionsstabilitet och andra egenskaper. Det kan ge en stabil stödplattform för PECVD-processen och säkerställa enhetlighet och planhet av filmavsättning.

VET Energy PECVD process grafit wafer stödbord har följande egenskaper:

▪Hög renhet:extremt låg föroreningshalt, undvik kontaminering av film, säkerställ filmkvalitet.

▪Hög densitet:hög densitet, hög mekanisk hållfasthet, tål hög temperatur och högtryck PECVD miljö.

▪Bra dimensionsstabilitet:liten dimensionsförändring vid hög temperatur, vilket säkerställer processstabilitet.

▪Utmärkt värmeledningsförmåga:överför effektivt värme för att förhindra överhettning av wafer.

▪Stark korrosionsbeständighet:kan motstå erosion av olika frätande gaser och plasma.

▪Anpassad service:grafitstödbord i olika storlekar och former kan anpassas efter kundens behov.

Produktfördelar

▪Förbättra filmkvaliteten:Säkerställ enhetlig filmavsättning och förbättra filmkvaliteten.

▪Förläng utrustningens livslängd:Utmärkt korrosionsbeständighet, förläng livslängden för PECVD-utrustning.

▪Minska produktionskostnaderna:Grafitbrickor av hög kvalitet kan minska skrothastigheten och minska produktionskostnaderna.

Grafitmaterial från SGL:

Typisk parameter: R6510
Index	Teststandard	Värde	Enhet
Genomsnittlig kornstorlek	ISO 13320	10	μm
Bulkdensitet	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Öppen porositet	DIN66133	10	%
Medelstor porstorlek	DIN66133	1.8	μm
Permeabilitet	DIN 51935	0,06	cm²/s
Rockwell hårdhet HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Specifik elektrisk resistivitet	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Böjhållfasthet	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Tryckhållfasthet	DIN 51910	130	MPa
Youngs modul	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Termisk expansion (20-200 ℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Värmeledningsförmåga (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Den är speciellt designad för högeffektiv solcellstillverkning och stöder bearbetning av stora G12-skivor. Optimerad bärardesign ökar genomströmningen avsevärt, vilket möjliggör högre avkastning och lägre produktionskostnader.

Punkt	Typ	Nummer waferbärare
PEVCD Grephite-båt - 156-serien	156-13 grepitbåt	144
	156-19 grepitbåt	216
	156-21 grepitbåt	240
	156-23 grafitbåt	308
PEVCD Grephite-båt - 125-serien	125-15 grephitbåt	196
	125-19 grepitbåt	252
	125-21 grphitbåt	280