Покрытие SiC Графитовые держатели пластин MOCVD Суссепторы

Краткое описание:

MOCVD Susceptor VET Energy с SiC-покрытием для эпитаксиального роста — это высокопроизводительный продукт, предназначенный для обеспечения стабильной и надежной работы в течение длительного периода.Он обладает очень хорошей термостойкостью и термической однородностью, высокой чистотой и устойчивостью к эрозии, что делает его идеальным решением для обработки пластин.

Отправьте нам электронное письмо Скачать в формате PDF

Информация о продукте

Теги продукта

Покрытие SiC, графит, MOCVD, пластина-носитель/токоприемник

Все наши токоприемники изготовлены из высокопрочного изостатического графита.Воспользуйтесь преимуществами высокой чистоты нашего графита, разработанного специально для сложных процессов, таких как эпитаксия, выращивание кристаллов, ионная имплантация и плазменное травление, а также для производства светодиодных чипов.

Особенности нашей продукции:

1. Устойчивость к высокотемпературному окислению до 1700 ℃.
2. Высокая чистота и термическая однородность.
3. Отличная коррозионная стойкость: кислоты, щелочи, соли и органические реагенты.
4. Высокая твердость, компактная поверхность, мелкие частицы.
5. Более длительный срок службы и долговечность.

ССЗ SiC薄膜基本物理性能 Основные физические свойства CVD SiCпокрытие
性质 / Свойство	典型数值 / Типичное значение
晶体结构 / Кристальная структура	FCC β-фаза多晶,主要为（111）取向
密度 / Плотность	3,21 г/см³
硬度 / Твердость	2500 фунтов стерлингов (загрузка 500 г)
晶粒大小 / Размер зерна	2~10 мкм
纯度 / Химическая чистота	99,99995%
热容 / Теплоемкость	640 Дж·кг^-1·К^-1
升华温度 / Температура сублимации	2700℃
抗弯强度 / Предел прочности при изгибе	415 МПа РТ 4-точечный
杨氏模量 / Модуль для младших	Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃
导热系数 / ТермалПроводимость	300 Вт·м^-1·К^-1
热膨胀系数 / Тепловое расширение (КТР)	4,5×10^-6K^-1

VET Energy является реальным производителем изделий из графита и карбида кремния по индивидуальному заказу с различными покрытиями, такими как покрытие SiC, покрытие TaC, стеклоуглеродное покрытие, пиролитическое углеродное покрытие и т. д., и может поставлять различные индивидуальные детали для полупроводниковой и фотоэлектрической промышленности.

Наша техническая команда из ведущих отечественных исследовательских институтов может предоставить вам более профессиональные решения в области материалов.

Мы постоянно разрабатываем передовые процессы для создания более совершенных материалов и разработали эксклюзивную запатентованную технологию, которая может сделать связь между покрытием и подложкой более прочной и менее склонной к отслоению.

Сердечно приветствуем вас посетить нашу фабрику, давайте обсудим!