Карбон/углеродные композиты(далее именуемый «С/С или ХФУ") — разновидность композиционного материала на основе углерода, армированного углеродным волокном и изделиями из него (углеродной заготовкой). Он обладает как инерцией углерода, так и высокой прочностью углеродного волокна. Он обладает хорошими механическими свойствами, термостойкостью, коррозионной стойкостью, демпфированием трения, а также характеристиками тепло- и электропроводности.
CVD-SiCПокрытие имеет характеристики однородной структуры, компактного материала, устойчивости к высоким температурам, стойкости к окислению, высокой чистоты, устойчивости к кислотам и щелочам и органических реагентов, а также стабильных физических и химических свойств.
Основные особенности:
1. Устойчивость к высокотемпературному окислению:стойкость к окислению остается очень хорошей при температуре до 1600 C.
2. Высокая чистота: производится методом химического осаждения из паровой фазы в условиях высокотемпературного хлорирования.
3. Устойчивость к эрозии: высокая твердость, компактная поверхность, мелкие частицы.
4. Коррозионная стойкость: кислоты, щелочи, соли и органические реагенты.
| ССЗ SiC薄膜基本物理性能 Основные физические свойства CVD SiCпокрытие | |
| 性质 / Недвижимость | 典型数值 / Типичное значение |
| 晶体结构 / Кристаллическая структура | FCC β-фаза 多晶,主要为(111)取向 |
| 密度 / Плотность | 3,21 г/см³ |
| 硬度 / Твердость | 2500 维氏硬度 (загрузка 500 г) |
| 晶粒大小 / Размер зерна | 2~10 мкм |
| 纯度 / Химическая чистота | 99,99995% |
| 热容 / Теплоемкость | 640 Дж·кг-1·К-1 |
| 升华温度 / Температура сублимации | 2700℃ |
| 抗弯强度 / Прочность на изгиб | 415 МПа РТ 4-точечный |
| 杨氏模量 / Модуль Юнга | Изгиб 430 ГПа, 4 точки, 1300 ℃ |
| 导热系数 / Теплопроводность | 300 Вт·м-1·К-1 |
| Тепловое расширение (CTE) | 4,5×10-6K-1 |
VET Energy является реальным производителем изделий из графита и карбида кремния по индивидуальному заказу с различными покрытиями, такими как покрытие SiC, покрытие TaC, стеклоуглеродное покрытие, пиролитическое углеродное покрытие и т. д., и может поставлять различные индивидуальные детали для полупроводниковой и фотоэлектрической промышленности.
Наша техническая команда из ведущих отечественных исследовательских институтов может предоставить вам более профессиональные решения в области материалов.
Мы постоянно разрабатываем передовые процессы для создания более совершенных материалов и разработали эксклюзивную запатентованную технологию, которая может сделать связь между покрытием и подложкой более прочной и менее склонной к отслоению.
Сердечно приветствуем вас посетить нашу фабрику, давайте обсудим!
