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  • Fluxo de processo de semicondutores

    Fluxo de processo de semicondutores

    Você pode entendê-lo mesmo que nunca tenha estudado física ou matemática, mas é um pouco simples e adequado para iniciantes. Se você quiser saber mais sobre CMOS, você tem que ler o conteúdo desta edição, pois só depois de entender o fluxo do processo (ou seja...
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  • Fontes de contaminação e limpeza de wafers semicondutores

    Fontes de contaminação e limpeza de wafers semicondutores

    Algumas substâncias orgânicas e inorgânicas são necessárias para participar na fabricação de semicondutores. Além disso, como o processo é sempre realizado em uma sala limpa com participação humana, os wafers semicondutores são inevitavelmente contaminados por diversas impurezas. De acordo...
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  • Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores

    Fontes de poluição e prevenção na indústria de fabricação de semicondutores

    A produção de dispositivos semicondutores inclui principalmente dispositivos discretos, circuitos integrados e seus processos de embalagem. A produção de semicondutores pode ser dividida em três etapas: produção do material do corpo do produto, fabricação do wafer do produto e montagem do dispositivo. Entre eles,...
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  • Por que precisa de desbaste?

    Por que precisa de desbaste?

    Na fase de processo de back-end, o wafer (wafer de silício com circuitos na frente) precisa ser afinado na parte traseira antes do subsequente corte em cubos, soldagem e embalagem para reduzir a altura de montagem do pacote, reduzir o volume do pacote de chips, melhorar a temperatura térmica do chip difusão...
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  • Processo de síntese de pó de cristal único SiC de alta pureza

    Processo de síntese de pó de cristal único SiC de alta pureza

    No processo de crescimento de cristal único de carboneto de silício, o transporte físico de vapor é o atual método de industrialização convencional. Para o método de crescimento PVT, o pó de carboneto de silício tem grande influência no processo de crescimento. Todos os parâmetros do pó de carboneto de silício dire...
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  • Por que uma caixa de wafer contém 25 wafers?

    Por que uma caixa de wafer contém 25 wafers?

    No mundo sofisticado da tecnologia moderna, os wafers, também conhecidos como wafers de silício, são os principais componentes da indústria de semicondutores. Eles são a base para a fabricação de diversos componentes eletrônicos como microprocessadores, memórias, sensores, etc., e cada wafer...
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  • Pedestais comumente usados ​​para epitaxia em fase de vapor

    Pedestais comumente usados ​​para epitaxia em fase de vapor

    Durante o processo de epitaxia em fase de vapor (VPE), a função do pedestal é apoiar o substrato e garantir aquecimento uniforme durante o processo de crescimento. Diferentes tipos de pedestais são adequados para diferentes condições de crescimento e sistemas de materiais. A seguir estão alguns...
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  • Como prolongar a vida útil dos produtos revestidos com carboneto de tântalo?

    Como prolongar a vida útil dos produtos revestidos com carboneto de tântalo?

    Os produtos revestidos de carboneto de tântalo são um material comumente usado para altas temperaturas, caracterizado por resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, resistência ao desgaste, etc. Portanto, eles são amplamente utilizados em indústrias como aeroespacial, química e energia. Para ex...
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  • Qual é a diferença entre PECVD e LPCVD em equipamentos CVD semicondutores?

    Qual é a diferença entre PECVD e LPCVD em equipamentos CVD semicondutores?

    A deposição química de vapor (CVD) refere-se ao processo de deposição de um filme sólido na superfície de uma pastilha de silício por meio de uma reação química de uma mistura gasosa. De acordo com as diferentes condições de reação (pressão, precursor), pode ser dividido em diversos equipamentos...
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