မီးဖိုချောင်သုံး ပစ္စည်းများ၏ အတွင်းပိုင်း ဖွဲ့စည်းပုံကို အသေးစိတ် ရှင်းပြထားသည်။

အပေါ်မှာပြထားတဲ့အတိုင်း ပုံမှန်ပါပဲ။

ပထမပိုင်း-

▪ Heating Element (အပူပေးကွိုင်) :

မီးဖိုပြွန်၏အတွင်းပိုင်းကို အပူပေးရန်အတွက် အသုံးပြုလေ့ရှိသော ခံနိုင်ရည်ရှိသော ဝါယာကြိုးများဖြင့် ပြုလုပ်ထားသည့် မီးဖိုပြွန်ပတ်ပတ်လည်တွင် တည်ရှိသည်။

▪ Quartz Tube-

မြင့်မားသောအပူချိန်ကိုခံနိုင်ရည်ရှိပြီး ဓာတုဗေဒနည်းအရ မသန်စွမ်းဖြစ်နေနိုင်သည့် သန့်စင်မြင့်သလင်းကျောက်ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသည့် ပူပြင်းသောဓာတ်တိုးမီးဖို၏အူတိုင်။

▪ ဓာတ်ငွေ့အစာ-

မီးဖိုပြွန်၏အပေါ်ဘက် သို့မဟုတ် ဘေးဘက်တွင်ရှိသော အောက်ဆီဂျင် သို့မဟုတ် အခြားဓာတ်ငွေ့များကို မီးဖိုပြွန်အတွင်းပိုင်းသို့ ပို့ဆောင်ရန်အတွက် အသုံးပြုသည်။

▪ SS Flange-

Quartz ပြွန်များနှင့် ဓာတ်ငွေ့လိုင်းများကို ချိတ်ဆက်ပေးသော အစိတ်အပိုင်းများ၊ ချိတ်ဆက်မှု၏ တင်းကျပ်မှုနှင့် တည်ငြိမ်မှုကို သေချာစေသည်။

▪ ဓာတ်ငွေ့အစာလိုင်းများ-

ဓာတ်ငွေ့ပို့လွှတ်ရန်အတွက် MFC ကို ဓာတ်ငွေ့ထောက်ပံ့သည့်ဆိပ်ကမ်းသို့ ချိတ်ဆက်သောပိုက်များ။

▪ MFC (Mass Flow Controller)-

လိုအပ်သော ဓာတ်ငွေ့ပမာဏကို တိကျစွာ ထိန်းညှိရန် quartz ပြွန်အတွင်း ဓာတ်ငွေ့ စီးဆင်းမှုကို ထိန်းချုပ်သည့် ကိရိယာ။

▪ လေဝင်လေထွက်-

မီးဖိုပြွန်အတွင်းမှ အိတ်ဇောဓာတ်ငွေ့ကို စက်ပစ္စည်း၏ အပြင်ဘက်သို့ ထုတ်ပေးရန် အသုံးပြုသည်။

အောက်ပိုင်း-

▪ လက်ထဲရှိ Silicon Wafers များ-

ဓာတ်တိုးမှုအတွင်း တူညီသောအပူရှိစေရန်အတွက် ဆီလီကွန် wafer များကို အထူး Holder တွင် ထားရှိထားပါသည်။

▪ Wafer ကိုင်ဆောင်သူ-

ဆီလီကွန်ဝေဖာကို ကိုင်ထားရန်နှင့် လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း ဆီလီကွန် wafer တည်ငြိမ်ကြောင်း သေချာစေရန် အသုံးပြုသည်။

▪ အောက်ခံခုံ-

များသောအားဖြင့် မြင့်မားသောအပူချိန်ခံနိုင်ရည်ရှိသောပစ္စည်းဖြင့် ပြုလုပ်ထားသည့် ဆီလီကွန် wafer Holder ကို ကိုင်ဆောင်ထားသည့် ဖွဲ့စည်းပုံ။

▪ ဓာတ်လှေကား-

ဆီလီကွန် wafer များကို အလိုအလျောက် တင်ခြင်းနှင့် ဖယ်ရှားခြင်းအတွက် Wafer ကိုင်ဆောင်သူများကို quartz ပြွန်များအတွင်းနှင့် အပြင်သို့ သယ်ဆောင်ရန် အသုံးပြုသည်။

▪ Wafer လွှဲပြောင်းစက်ရုပ်-

မီးဖိုပြွန်စက်၏ဘေးဘက်တွင်ရှိသော၊ ၎င်းကို ဆီလီကွန် wafer သေတ္တာမှ အလိုအလျောက်ဖယ်ရှားပြီး မီးဖိုပြွန်အတွင်း ထားရန် သို့မဟုတ် လုပ်ဆောင်ပြီးနောက် ၎င်းကိုဖယ်ရှားရန် အသုံးပြုသည်။