Paletta cantilever avanzata in SiC per la lavorazione dei wafer

Breve descrizione:

La pala cantilever avanzata SiC per la lavorazione dei wafer lanciata da vet-china utilizza materiali SiC ad alta tecnologia per migliorare l'efficienza e la precisione della lavorazione dei wafer. La pala a sbalzo di Vet-china presenta un'eccellente resistenza al calore e alla corrosione, garantendo prestazioni stabili nella gestione dei wafer in ambienti di produzione difficili, rendendola la scelta ideale per migliorare la resa produttiva.


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L'AvanzatoPagaia a sbalzo SiCper la lavorazione dei wafer creato da vet-china fornisce un'eccellente soluzione per la produzione di semiconduttori. Questa pala a sbalzo è realizzata in materiale SiC (carburo di silicio) e la sua elevata durezza e resistenza al calore le consentono di mantenere prestazioni eccellenti in ambienti ad alta temperatura e corrosivi. Il design della pala a sbalzo consente di supportare in modo affidabile il wafer durante la lavorazione, riducendo il rischio di frammentazione e danni.

Pagaia a sbalzo SiCè un componente specializzato utilizzato in apparecchiature per la produzione di semiconduttori come forni di ossidazione, forni di diffusione e forni di ricottura, l'uso principale è per il carico e lo scarico dei wafer, supporta e trasporta i wafer durante i processi ad alta temperatura.

Strutture comuniDiSiCcantilevapsbadiglio: una struttura a sbalzo, fissata a un'estremità e libera all'altra, ha tipicamente un design piatto e simile a una pagaia.

VET Energy utilizza materiali in carburo di silicio ricristallizzato ad alta purezza per garantire la qualità.

Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato

Proprietà

Valore tipico

Temperatura di lavoro (°C)

1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente)

Contenuto di SiC

> 99,96%

Contenuti Si gratuiti

<0,1%

Densità apparente

2,60-2,70 g/cm3

Porosità apparente

< 16%

Resistenza alla compressione

>600MPa

Resistenza alla flessione a freddo

80-90MPa (20°C)

Resistenza alla flessione a caldo

90-100MPa (1400°C)

Dilatazione termica @1500°C

4,7010-6/°C

Conduttività termica @1200°C

23W/m•K

Modulo elastico

240 GPa

Resistenza agli shock termici

Estremamente buono

I vantaggi della pala cantilever SiC avanzata di VET Energy per la lavorazione dei wafer sono:

-Stabilità alle alte temperature: utilizzabile in ambienti superiori a 1600°C;

-Basso coefficiente di dilatazione termica: mantiene la stabilità dimensionale, riducendo il rischio di deformazione del wafer;

-Elevata purezza: minor rischio di contaminazione da metalli;

-Inerzia chimica: resistente alla corrosione, adatto a vari ambienti gassosi;

-Elevata resistenza e durezza: resistente all'usura, lunga durata;

-Buona conduttività termica: aiuta nel riscaldamento uniforme dei wafer.

Pagaia a sbalzo10
Pagaia a sbalzo16
研发团队2
生产设备1
公司客户1

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