L'AvanzatoPagaia a sbalzo SiCper la lavorazione dei wafer creato da vet-china fornisce un'eccellente soluzione per la produzione di semiconduttori. Questa pala a sbalzo è realizzata in materiale SiC (carburo di silicio) e la sua elevata durezza e resistenza al calore le consentono di mantenere prestazioni eccellenti in ambienti ad alta temperatura e corrosivi. Il design della pala a sbalzo consente di supportare in modo affidabile il wafer durante la lavorazione, riducendo il rischio di frammentazione e danni.
Pagaia a sbalzo SiCè un componente specializzato utilizzato in apparecchiature per la produzione di semiconduttori come forni di ossidazione, forni di diffusione e forni di ricottura, l'uso principale è per il carico e lo scarico dei wafer, supporta e trasporta i wafer durante i processi ad alta temperatura.
Strutture comuniDiSiCcantilevapsbadiglio: una struttura a sbalzo, fissata a un'estremità e libera all'altra, ha tipicamente un design piatto e simile a una pagaia.
VET Energy utilizza materiali in carburo di silicio ricristallizzato ad alta purezza per garantire la qualità.
Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato | |
Proprietà | Valore tipico |
Temperatura di lavoro (°C) | 1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente) |
Contenuto di SiC | > 99,96% |
Contenuti Si gratuiti | <0,1% |
Densità apparente | 2,60-2,70 g/cm3 |
Porosità apparente | < 16% |
Resistenza alla compressione | >600MPa |
Resistenza alla flessione a freddo | 80-90MPa (20°C) |
Resistenza alla flessione a caldo | 90-100MPa (1400°C) |
Dilatazione termica @1500°C | 4,7010-6/°C |
Conduttività termica @1200°C | 23W/m•K |
Modulo elastico | 240 GPa |
Resistenza agli shock termici | Estremamente buono |
I vantaggi della pala cantilever SiC avanzata di VET Energy per la lavorazione dei wafer sono:
-Stabilità alle alte temperature: utilizzabile in ambienti superiori a 1600°C;
-Basso coefficiente di dilatazione termica: mantiene la stabilità dimensionale, riducendo il rischio di deformazione del wafer;
-Elevata purezza: minor rischio di contaminazione da metalli;
-Inerzia chimica: resistente alla corrosione, adatto a vari ambienti gassosi;
-Elevata resistenza e durezza: resistente all'usura, lunga durata;
-Buona conduttività termica: aiuta nel riscaldamento uniforme dei wafer.
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