CVD-SiChúðun hefur einkenni einsleitrar uppbyggingar, samsetts efnis, háhitaþols, oxunarþols, mikillar hreinleika, sýru- og basaþols og lífræns hvarfefnis, með stöðuga eðlis- og efnafræðilega eiginleika.

Í samanburði við háhreint grafítefni byrjar grafít að oxast við 400C, sem mun valda tapi á dufti vegna oxunar, sem leiðir til umhverfismengunar í jaðartækjum og lofttæmishólfum og eykur óhreinindi í mjög hreinu umhverfi.

Hins vegar getur SiC húðun viðhaldið líkamlegum og efnafræðilegum stöðugleika við 1600 gráður, það er mikið notað í nútíma iðnaði, sérstaklega í hálfleiðaraiðnaði.

Fyrirtækið okkar veitir SiC húðunarferlisþjónustu með CVD aðferð á yfirborði grafíts, keramik og annarra efna, þannig að sérstakar lofttegundir sem innihalda kolefni og kísil hvarfast við háan hita til að fá mikla hreinleika SiC sameindir, sameindir sem eru settar á yfirborð húðuðu efnanna, myndar SIC hlífðarlag. SIC sem myndast er þétt tengt við grafítbotninn, sem gefur grafítbotninum sérstaka eiginleika, þannig að yfirborð grafítsins er þétt, porosity-frjáls, háhitaþol, tæringarþol og oxunarþol.

Helstu eiginleikar:

1. Oxunarþol við háan hita:

oxunarþolið er enn mjög gott þegar hitastigið er allt að 1600 C.

2. Hár hreinleiki: gert með efnagufuútfellingu við háhita klórunarskilyrði.

3. Rofþol: mikil hörku, samningur yfirborð, fínar agnir.

4. Tæringarþol: sýra, basa, salt og lífræn hvarfefni.

Helstu upplýsingar um CVD-SIC húðun: