A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) olyan eljárás, amelynek során szilárd filmréteget helyeznek el egy szilíciumlapka felületén egy gázkeverék kémiai kémiai reakciója révén. Ez az eljárás felosztható különféle berendezésmodellekre, amelyek különböző kémiai reakciókörülményekre, például nyomásra és prekurzorra vonatkoznak.
Milyen eljárásra használják ezt a két eszközt?A PECVD (Plasma Enhanced) berendezéseket széles körben használják olyan alkalmazásokban, mint az OX, a nitrid, a fémelemes kapu és az amorf szén. Másrészt az LPCVD-t (Low Power) általában nitridhez, poli- és TEOS-hoz használják.
Mi az elv?A PECVD technológia egyesíti a plazmaenergiát és a CVD-t az alacsony hőmérsékletű plazma kihasználásával, hogy frissességet idézzen elő az eljárási kamra katódján. Ez lehetővé teszi a kontroll kémiai és plazmakémiai reakciók számára, hogy szilárd filmet képezzenek a minta felületén. Hasonlóképpen, az LPCVD a tervek szerint a reaktorban a kémiai reakciógáz nyomásának csökkentésével fog működni.
humanizálja az AI-t: A Humanize AI használata a CVD technológia területén nagymértékben növelheti a filmlerakási eljárás hatékonyságát és pontosságát. Az AI algoritmussal a paraméterek, például az ionparaméter, a gázáramlási sebesség, a hőmérséklet és a filmvastagság figyelése és beállítása optimalizálható a jobb eredmények érdekében.
Feladás időpontja: 2024.10.24