Először is tudnunk kellPECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). A plazma az anyagmolekulák hőmozgásának felerősödése. A köztük lévő ütközés következtében a gázmolekulák ionizálódnak, és az anyag szabadon mozgó pozitív ionok, elektronok és semleges részecskék keveréke lesz, amelyek egymással kölcsönhatásba lépnek.
Becslések szerint a fény visszaverődési vesztesége a szilícium felületén körülbelül 35%. A tükröződésgátló fólia nagymértékben javíthatja az akkumulátorcella napfény-felhasználási arányát, ami segít növelni a fotogenerált áramsűrűséget, és ezáltal javítani az átalakítás hatékonyságát. Ugyanakkor a filmben lévő hidrogén passziválja az akkumulátorcella felületét, csökkenti az emitter csomópont felületi rekombinációs sebességét, csökkenti a sötétáramot, növeli a nyitott áramköri feszültséget és javítja a fotoelektromos átalakítás hatékonyságát. Az átégetési folyamat során a magas hőmérsékletű azonnali izzítás egyes Si-H és NH kötéseket megszakít, a felszabaduló H pedig tovább erősíti az akkumulátor passzivációját.
Mivel a fotovoltaikus minőségű szilícium anyagok elkerülhetetlenül nagy mennyiségű szennyeződést és hibát tartalmaznak, a kisebb hordozó élettartama és a szilícium diffúziós hossza csökken, ami az akkumulátor konverziós hatékonyságának csökkenését eredményezi. A H reakcióba léphet a szilícium hibáival vagy szennyeződéseivel, ezáltal átviheti a sávban lévő energiasávot a vegyértéksávba vagy a vezetési sávba.
1. PECVD-elv
A PECVD rendszer egy sor generátort használPECVD grafit csónak és nagyfrekvenciás plazma gerjesztők. A plazmagenerátor közvetlenül a bevonólemez közepére van felszerelve, hogy alacsony nyomáson és magas hőmérsékleten reagáljon. A használt aktív gázok a szilán SiH4 és ammónia NH3. Ezek a gázok a szilícium ostyán tárolt szilícium-nitridre hatnak. A szilán és az ammónia arányának változtatásával különböző törésmutatókat kaphatunk. A leválasztási folyamat során nagy mennyiségű hidrogénatom és hidrogénion keletkezik, így az ostya hidrogén passziválása nagyon jó. Vákuumban és 480 Celsius fokos környezeti hőmérsékleten a szilícium lapka felületét SixNy réteggel vonják be aPECVD grafit csónak.
3SiH4+4NH3 → Si3N4+12H2
2. Si3N4
A Si3N4 film színe a vastagságával változik. Általában az ideális vastagság 75 és 80 nm között van, ami sötétkéknek tűnik. A Si3N4 film törésmutatója 2,0 és 2,5 között a legjobb. Az alkoholt általában a törésmutató mérésére használják.
Kiváló felületi passzivációs hatás, hatékony optikai tükröződésgátló teljesítmény (vastagság törésmutató-illesztés), alacsony hőmérsékletű eljárás (hatékonyan csökkenti a költségeket), és a keletkező H-ionok passziválják a szilícium lapka felületét.
3. Gyakori ügyek a bevonóműhelyben
Film vastagság:
A lerakódási idő különböző filmvastagságok esetén eltérő. A lerakódási időt a bevonat színének megfelelően növelni vagy csökkenteni kell. Ha a film fehéres, a lerakódási időt csökkenteni kell. Ha vöröses, akkor megfelelően növelni kell. Minden egyes fóliát meg kell erősíteni, és a hibás termékek nem áramolhatnak be a következő folyamatba. Ha például gyenge a bevonat, például színfoltok és vízjelek, akkor a gyártósoron a leggyakoribb felületi fehéredést, színeltérést és fehér foltokat időben ki kell szedni. A felület fehéredését főként a vastag szilícium-nitrid film okozza, amely a film lerakódási idejének beállításával állítható be; a színkülönbség-fóliát elsősorban a gázút elzáródása, a kvarccső szivárgása, a mikrohullámú sütő meghibásodása stb. okozza; a fehér foltokat elsősorban az előző folyamatban előforduló kis fekete foltok okozzák. Reflexiós képesség, törésmutató, stb., speciális gázok biztonsága stb.
Fehér foltok a felületen:
A PECVD viszonylag fontos folyamat a napelemekben, és fontos mutatója egy vállalat napelemeinek hatékonyságának. A PECVD-folyamat általában elfoglalt, és minden egyes sejtcsoportot ellenőrizni kell. Sok bevonatú kemencecső létezik, és mindegyik csőben általában több száz cella van (a berendezéstől függően). A folyamatparaméterek megváltoztatása után az ellenőrzési ciklus hosszú. A bevonattechnológia olyan technológia, amelynek az egész fotovoltaikus ipar nagy jelentőséget tulajdonít. A napelemek hatásfoka a bevonattechnológia fejlesztésével javítható. A jövőben a napelem felületi technológia áttörést jelenthet a napelemek elméleti hatékonyságában.
Feladás időpontja: 2024. december 23