Sa a 6 Pous N Kalite SiC Wafer se Enjenieri pou pèfòmans amelyore nan kondisyon ekstrèm, fè li yon chwa ideyal pou aplikasyon ki mande gwo pouvwa ak rezistans tanperati. Pwodwi kle ki asosye ak wafer sa a gen ladan Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, ak SiN Substrate. Materyèl sa yo asire pèfòmans optimal nan yon varyete de pwosesis fabrikasyon semi-conducteurs, sa ki pèmèt aparèy ki tou de enèji-efikas ak dirab.
Pou konpayi k ap travay ak Epi Wafer, Gallium Oxide Ga2O3, Cassette, oswa AlN Wafer, 6 Pous N Kalite SiC Wafer VET Energy bay fondasyon ki nesesè pou devlopman pwodwi inovatè. Kit se nan elektwonik gwo pouvwa oswa dènye nan teknoloji RF, wafers sa yo asire konduktiviti ekselan ak rezistans tèmik minimòm, pouse limit yo nan efikasite ak pèfòmans.
SPECIFIKASYON WAFERING
*n-Pm=n-tip Pm-Klas, n-Ps=n-tip Ps-Klas, Sl=Semi-Izolan
Atik | 8-pous | 6-pous | 4-pous | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Bow(GF3YFCD)-Valè absoli | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Chaîne (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR)-10mmx10mm | <2μm | ||||
Wafer Edge | Bizote |
FINI SIfas
*n-Pm=n-tip Pm-Klas, n-Ps=n-tip Ps-Klas, Sl=Semi-Izolan
Atik | 8-pous | 6-pous | 4-pous | ||
nP | n-Pm | n-Ps | SI | SI | |
Sifas fini | Double bò Optical Polonè, Si- Face CMP | ||||
SurfaceRoughness | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0.2nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Chips Edge | Okenn pèmisyon (longè ak lajè ≥0.5mm) | ||||
Tire | Okenn Pèmèt | ||||
Rayures (Si-Face) | Qty.≤5, Kimilatif | Qty.≤5, Kimilatif | Qty.≤5, Kimilatif | ||
Fant | Okenn Pèmèt | ||||
Eksklizyon Edge | 3mm |