Horno tubular CVD mejorado con plasma para deposición de películas duras de alta calidad

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Lograr la satisfacción del comprador es el propósito sin fin de nuestra empresa. Realizaremos excelentes iniciativas para adquirir soluciones nuevas y de alta calidad, cumplir con sus especificaciones exclusivas y brindarle proveedores de preventa, venta y posventa de productos nuevos y novedosos: hornos tubulares CVD mejorados con plasma para deposición de alta- Quality Hard Films, bienvenido a su consulta, el mejor servicio se brindará de todo corazón.
Lograr la satisfacción del comprador es el propósito sin fin de nuestra empresa. Tomaremos grandes iniciativas para adquirir soluciones nuevas y de alta calidad, cumplir con sus especificaciones exclusivas y brindarle servicios de preventa, venta y posventa paraHorno de tubo CVD de China y deposición química de vapor de horno de tubo CVDEn un mercado cada vez más competitivo, con un servicio sincero, productos de alta calidad y una reputación bien merecida, siempre brindamos a los clientes soporte en artículos y técnicas para lograr una cooperación a largo plazo. Vivir con calidad y desarrollarnos con crédito es nuestra eterna búsqueda. Creemos firmemente que después de su visita nos convertiremos en socios a largo plazo.

Descripción del Producto

Carbono / compuestos de carbono(en adelante denominado “C/C o CFC”) es un tipo de material compuesto a base de carbono y reforzado con fibra de carbono y sus productos (preforma de fibra de carbono). Tiene tanto la inercia del carbono como la alta resistencia de la fibra de carbono. Tiene buenas propiedades mecánicas, resistencia al calor, resistencia a la corrosión, amortiguación por fricción y características de conductividad térmica y eléctrica.

CVD-SiCEl recubrimiento tiene las características de estructura uniforme, material compacto, resistencia a altas temperaturas, resistencia a la oxidación, alta pureza, resistencia a ácidos y álcalis y reactivo orgánico, con propiedades físicas y químicas estables.

En comparación con los materiales de grafito de alta pureza, el grafito comienza a oxidarse a 400 °C, lo que provocará una pérdida de polvo debido a la oxidación, lo que provocará contaminación ambiental de los dispositivos periféricos y las cámaras de vacío, y aumentará las impurezas del entorno de alta pureza.

Sin embargo, el recubrimiento de SiC puede mantener la estabilidad física y química a 1600 grados. Se usa ampliamente en la industria moderna, especialmente en la industria de semiconductores.

Nuestra empresa brinda servicios de proceso de recubrimiento de SiC mediante el método CVD en la superficie de grafito, cerámica y otros materiales, de modo que gases especiales que contienen carbono y silicio reaccionan a alta temperatura para obtener moléculas de SiC de alta pureza, moléculas depositadas en la superficie de los materiales recubiertos. formando una capa protectora SIC. El SIC formado está firmemente adherido a la base de grafito, dándole a la base de grafito propiedades especiales, haciendo así que la superficie del grafito sea compacta, libre de porosidad, resistente a altas temperaturas, a la corrosión y a la oxidación.

 Procesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafito

Características principales:

1. Resistencia a la oxidación a altas temperaturas:

La resistencia a la oxidación sigue siendo muy buena cuando la temperatura alcanza los 1600 C.

2. Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor en condiciones de cloración a alta temperatura.

3. Resistencia a la erosión: alta dureza, superficie compacta, partículas finas.

4. Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

 

Especificaciones principales de los recubrimientos CVD-SIC:

SiC-CVD

Densidad

(g/cc)

3.21

Resistencia a la flexión

(Mpa)

470

Expansión térmica

(10-6/K)

4

Conductividad térmica

(W/mK)

300

Imágenes detalladas

Procesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafitoProcesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafitoProcesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafitoProcesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafitoProcesamiento de recubrimiento de SiC en susceptores MOCVD de superficie de grafito

Información de la empresa

111

Equipos de fábrica

222

Depósito

333

Certificaciones

Certificaciones22

 


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