Supportu di Wafer di Grafite PECVD

U supportu di wafer di grafite di u processu VET Energy PECVD hè un cunsumu core cuncepitu per u prucessu PECVD (deposizione di vapore chimica rinforzata di plasma). Stu pruduttu hè fattu di materiale di grafite d'alta purezza, d'alta densità, cù una eccellente resistenza à a temperatura alta, resistenza à a corrosione, stabilità dimensionale è altre caratteristiche, ponu furnisce una piattaforma di supportu stabile per u prucessu PECVD, per assicurà l'uniformità è a piattezza di a deposizione di film.

U disignu di "supportu di grafite" di VET Energy supportu di wafer di grafite pò micca solu sustene in modu efficace u wafer, ma ancu furnisce stabilità termale in l'ambiente PECVD d'alta temperatura è di pressione alta per assicurà a stabilità di u prucessu.

U supportu di wafer di grafite di processu VET Energy PECVD hà e seguenti caratteristiche:

▪Alta purezza:cuntenutu di impurità estremamente bassu, evite a contaminazione di a film, per assicurà a qualità di a film.

▪Alta densità:alta densità, altu forza miccanicu, pò sustiniri high temperature e high pressure ambiente PECVD.

▪Bona stabilità dimensionale:picculi cambiamenti dimensionali à alta temperatura per assicurà a stabilità di u prucessu.

▪Eccellente conduttività termica:trasferisce in modu efficace u calore per impedisce u surriscaldamentu di wafer.

▪Forte resistenza à a corrosione:Capace di resistere à l'erosione da diversi gasi corrosivi è plasma.

▪serviziu persunalizata:I tavulini di supportu di grafite di diverse dimensioni è forme ponu esse persunalizati secondu i bisogni di i clienti.