Susceptor de barril per a epitàxia en fase líquida LPE

Susceptor de barril per a epitaxi en fase líquida LPE

EPI (epitaxia)és un procés crític en la fabricació de semiconductors avançats. Implica la deposició de capes primes de material sobre un substrat per crear estructures complexes de dispositius. Els susceptors de barril de grafit recoberts de SiC per a EPI s'utilitzen habitualment com a susceptors en reactors EPI a causa de la seva excel·lent conductivitat tèrmica i resistència a altes temperatures. AmbRecobriment CVD-SiC, es torna més resistent a la contaminació, l'erosió i el xoc tèrmic. Això es tradueix en una vida útil més llarga per al susceptor i una millor qualitat de la pel·lícula.

Avantatges del nostre susceptor de barril per a epitaxi en fase líquida LPE:
Contaminació reduïda:La naturalesa inert del SiC evita que les impureses s'adhereixin a la superfície del susceptor, reduint el risc de contaminació de les pel·lícules dipositades.
Augment de la resistència a l'erosió:El SiC és significativament més resistent a l'erosió que el grafit convencional, cosa que augmenta la vida útil del susceptor.
Estabilitat tèrmica millorada:SiC té una excel·lent conductivitat tèrmica i pot suportar altes temperatures sense distorsió significativa.
Qualitat de pel·lícula millorada:La millora de l'estabilitat tèrmica i la reducció de la contaminació donen lloc a pel·lícules dipositades de major qualitat amb una uniformitat i un control de gruix millorats.