La hòstia GaAs de 4 polzades de VET Energy és un material essencial per a dispositius optoelectrònics i d'alta velocitat, inclosos amplificadors de RF, LED i cèl·lules solars. Aquestes hòsties són conegudes per la seva alta mobilitat d'electrons i la seva capacitat d'operar a freqüències més altes, cosa que les converteix en un component clau en aplicacions avançades de semiconductors. VET Energy garanteix hòsties de GaAs d'alta qualitat amb un gruix uniforme i defectes mínims, adequades per a una sèrie de processos de fabricació exigents.
Aquestes hòsties GaAs de 4 polzades són compatibles amb diversos materials semiconductors com ara Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer i SiN Substrate, cosa que les fa versàtils per a la integració en diferents arquitectures de dispositius. Tant si s'utilitzen per a la producció d'Epi Wafer com amb materials d'avantguarda com l'òxid de gal·li Ga2O3 i AlN Wafer, ofereixen una base fiable per a l'electrònica de nova generació. A més, les hòsties són totalment compatibles amb els sistemes de manipulació basats en cassets, assegurant un bon funcionament tant en entorns de recerca com de fabricació de gran volum.
VET Energy ofereix una cartera completa de substrats semiconductors, que inclou Si Wafer, SiC Substrate, SOI Wafer, SiN Substrate, Epi Wafer, Òxid de Galli Ga2O3 i AlN Wafer. La nostra diversa línia de productes respon a les necessitats de diverses aplicacions electròniques, des d'electrònica de potència fins a RF i optoelectrònica.
VET Energy ofereix hòsties de GaAs personalitzables per satisfer els vostres requisits específics, inclosos diferents nivells de dopatge, orientacions i acabats superficials. El nostre equip d'experts ofereix suport tècnic i servei postvenda per garantir el vostre èxit.
ESPECIFICACIONS DE LA HÒBLEA
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
TTV (GBIR) | ≤6um | ≤6um | |||
Arc (GF3YFCD)-Valor absolut | ≤15μm | ≤15μm | ≤25μm | ≤15μm | |
Deformació (GF3YFER) | ≤25μm | ≤25μm | ≤40μm | ≤25μm | |
LTV (SBIR) - 10 mm x 10 mm | <2 μm | ||||
Vora de l'hòstia | Bisellat |
ACABAT SUPERFICIAL
*n-Pm=n-tipus Pm-Grau, n-Ps=n-tipus Ps-Grau, Sl=Semi-aïllant
Item | 8 polzades | 6 polzades | 4 polzades | ||
nP | n-p.m | n-Ps | SI | SI | |
Acabat superficial | Poliment òptic de doble cara, CMP Si-face | ||||
Rugositat superficial | (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2 nm | (5umx5um) Si-Face Ra≤0.2nm | |||
Xips de vora | Cap permès (longitud i amplada ≥0,5 mm) | ||||
Sagnats | Cap permès | ||||
Esgarrapades (Si-Face) | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | Quantitat ≤5, acumulat | ||
Esquerdes | Cap permès | ||||
Exclusió de vora | 3 mm |