Хімічне осадження з парової фази (CVD) — це процедура, яка передбачає розміщення твердої плівки на поверхні кремнієвої пластини через хімічну хімічну реакцію газової суміші. Цю процедуру можна розділити на різні моделі обладнання, встановлені на різних умовах хімічної реакції, таких як тиск і прекурсор.
Для якої процедури використовуються ці два пристрої?Обладнання PECVD (Plasma Enhanced) широко використовується в таких додатках, як OX, Nitride, metallic element gate та аморфний вуглець. З іншого боку, LPCVD (низька потужність) зазвичай використовується для нітриду, поліетилену та TEOS.
Який принцип?Технологія PECVD поєднує енергію плазми та CVD шляхом використання низькотемпературної плазми для індукції свіжого розряду на катоді камери процедури. Це дозволяє керувати хімічною та плазмохімічною реакціями для утворення суцільної плівки на поверхні зразка. Подібним чином LPCVD планується працювати при зниженому тиску газу хімічної реакції в реакторі.
гуманізувати ШІ: Використання Humanize AI у сфері технології CVD може значно підвищити ефективність і точність процедури осадження плівки. За допомогою алгоритму штучного інтелекту можна оптимізувати моніторинг і коригування таких параметрів, як іонний параметр, швидкість потоку газу, температура та товщина плівки, щоб отримати кращі результати.
Час публікації: 24 жовтня 2024 р