Епітаксіальний Epi Graphite Barrel Susceptor

Епітаксіальний Epi Graphite Barrel Susceptor

Епітаксіальний Epi Graphite Barrel Susceptorце спеціально розроблений опорний і нагрівальний пристрій, який використовується для утримання та нагрівання напівпровідникових підкладок під час виробничих процесів, таких як процеси осадження або епітаксії.

Його структура включає в себе типову циліндричну або злегка бочкоподібну форму, поверхню має безліч кишень або платформ для розміщення вафель, може бути суцільною або порожнистою, залежно від способу нагрівання.

Основні функції епітаксіального бочкоприймача:

-Підтримка підкладки: надійно утримує кілька напівпровідникових пластин;
-Джерело тепла: забезпечує високі температури, необхідні для росту за допомогою нагрівання;
-Рівномірність температури: забезпечує рівномірний нагрів підкладок;
-Обертання: зазвичай обертається під час росту, щоб покращити рівномірність розподілу температури та газу.

Принцип роботи Epi graphite barrel suceptor:
- В епітаксіальному реакторі стовбурний токоприймач нагрівається до необхідної температури (зазвичай 1000℃-1200℃ для кремнієвої епітаксії);
-Стойкоприймач стовбура обертається для забезпечення рівномірного розподілу температури та потоку газу;
-Реакційні гази розкладаються при високих температурах, утворюючи епітаксіальні шари на поверхні підкладки.

Застосування:
- В основному використовується для епітаксійного росту кремнію
- Також застосовується для епітаксії інших напівпровідникових матеріалів, таких як GaAs, InP тощо.

VET Energy використовує графіт високої чистоти з CVD-SiC покриттям для підвищення хімічної стабільності:

Переваги VET Energy Epitaxial Epi Graphite Barrel Susceptor:

-Висока температурна стабільність;
- Хороша теплова однорідність;
-Можна обробляти кілька субстратів одночасно, підвищуючи ефективність виробництва;
-Хімічно інертний, підтримує високу чистоту середовища росту.