Suporta sa PECVD Graphite Wafer

PECVD Graphite Wafer Support Itinatampok na Larawan

Maikling Paglalarawan:

Idinisenyo para sa katumpakan at pagganap, ang Graphite Wafer Support ng VET Energy ay ang perpektong materyal para sa paggamit sa advanced na pagpoproseso ng wafer, kung saan ang mataas na thermal stability at pare-parehong pagganap ay kritikal. Gumagamit ka man sa mga semiconductor wafer o iba pang maselang substrate, ang mataas na kalidad na suportang ito ng grapayt ay magpapahusay sa iyong pagiging maaasahan ng proseso at kalidad ng produkto, na ginagawa itong isang kailangang-kailangan na bahagi para sa modernong pagmamanupaktura.

Magpadala ng email sa amin I-download bilang PDF

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Ang VET Energy PECVD process graphite wafer support ay isang pangunahing consumable na idinisenyo para sa proseso ng PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition). Ang produktong ito ay gawa sa high-purity, high-density graphite material, na may mahusay na mataas na temperatura na paglaban, corrosion resistance, dimensional stability at iba pang mga katangian, ay maaaring magbigay ng isang matatag na platform ng suporta para sa proseso ng PECVD, upang matiyak ang pagkakapareho at flatness ng film deposition.

Ang disenyo ng "graphite support" ng VET Energy graphite wafer support ay hindi lamang epektibong makakasuporta sa wafer, ngunit nagbibigay din ng thermal stability sa mataas na temperatura at mataas na presyon ng PECVD na kapaligiran upang matiyak ang katatagan ng proseso.

Ang VET Energy PECVD process graphite wafer support ay may mga sumusunod na katangian:

▪Mataas na kadalisayan:napakababang nilalaman ng karumihan, iwasan ang kontaminasyon ng pelikula, upang matiyak ang kalidad ng pelikula.

▪Mataas na density:mataas na densidad, mataas na lakas ng makina, makatiis ng mataas na temperatura at mataas na presyon ng kapaligiran ng PECVD.

▪Magandang dimensional na katatagan:maliliit na pagbabago sa dimensyon sa mataas na temperatura upang matiyak ang katatagan ng proseso.

▪Napakahusay na thermal conductivity:epektibong naglilipat ng init upang maiwasan ang overheating ng wafer.

▪Malakas na paglaban sa kaagnasan:May kakayahang labanan ang pagguho ng iba't ibang mga kinakaing unti-unting gas at plasma.

▪Pasadyang serbisyo:Maaaring i-customize ang mga talahanayan ng suporta sa graphite na may iba't ibang laki at hugis ayon sa mga pangangailangan ng customer.

Graphite material mula sa SGL:

Karaniwang parameter: R6510
Index	Pamantayan sa pagsubok	Halaga	Yunit
Average na laki ng butil	ISO 13320	10	μm
Bulk density	DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
Buksan ang porosity	DIN66133	10	%
Katamtamang laki ng butas	DIN66133	1.8	μm
Pagkamatagusin	DIN 51935	0.06	cm²/s
Ang tigas ng Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Tukoy na resistivity ng kuryente	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Flexural na lakas	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Lakas ng compressive	DIN 51910	130	MPa
Modulus ni Young	DIN 51915	11.5×10³	MPa
Thermal expansion(20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Thermal conductivity (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Ito ay partikular na idinisenyo para sa high-efficiency solar cell manufacturing, na sumusuporta sa G12 large-size wafer processing. Ang na-optimize na disenyo ng carrier ay makabuluhang nagpapataas ng throughput, na nagpapagana ng mas mataas na mga rate ng ani at mas mababang mga gastos sa produksyon.

item	Uri	Numero ng wafer carrier
PEVCD Grephite boat - Ang 156 series	156-13 grephite boat	144
	156-19 grephite boat	216
	156-21 grephite boat	240
	156-23 graphite boat	308
PEVCD Grephite boat - Ang 125 series	125-15 grephite boat	196
	125-19 grephite boat	252
	125-21 graphite na bangka	280