CVD-SiCcoating heeft de kenmerken van een uniforme structuur, compact materiaal, hoge temperatuurbestendigheid, oxidatieweerstand, hoge zuiverheid, zuur- en alkalibestendigheid en organisch reagens, met stabiele fysische en chemische eigenschappen.

Vergeleken met hoogzuivere grafietmaterialen begint grafiet te oxideren bij 40°C, wat poederverlies als gevolg van oxidatie zal veroorzaken, resulterend in milieuvervuiling van randapparatuur en vacuümkamers, en de onzuiverheden van een hoogzuivere omgeving vergroten.

SiC-coating kan echter de fysische en chemische stabiliteit op 1600 graden behouden. Het wordt veel gebruikt in de moderne industrie, vooral in de halfgeleiderindustrie.

Ons bedrijf levert SiC-coatingprocesdiensten via CVD-methode op het oppervlak van grafiet, keramiek en andere materialen, zodat speciale gassen die koolstof en silicium bevatten bij hoge temperatuur reageren om SiC-moleculen met een hoge zuiverheid te verkrijgen, moleculen die worden afgezet op het oppervlak van de gecoate materialen. vormende SIC-beschermlaag. De gevormde SIC is stevig gebonden aan de grafietbasis, waardoor de grafietbasis speciale eigenschappen krijgt, waardoor het oppervlak van het grafiet compact, porositeitsvrij, bestand tegen hoge temperaturen, corrosieweerstand en oxidatieweerstand wordt.

Belangrijkste kenmerken:

1. Oxidatieweerstand op hoge temperatuur:

de oxidatieweerstand is nog steeds erg goed bij een temperatuur tot 1600 C.

2. Hoge zuiverheid: gemaakt door chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur.

3. Erosiebestendigheid: hoge hardheid, compact oppervlak, fijne deeltjes.

4. Corrosiebestendigheid: zuur, alkali, zout en organische reagentia.

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coatings: