Siliciumcarbide (SiC) is een nieuw samengesteld halfgeleidermateriaal. Siliciumcarbide heeft een grote bandafstand (ongeveer 3 keer silicium), een hoge kritische veldsterkte (ongeveer 10 keer silicium), een hoge thermische geleidbaarheid (ongeveer 3 keer silicium). Het is een belangrijk halfgeleidermateriaal van de volgende generatie. SiC-coatings worden veel gebruikt in de halfgeleiderindustrie en fotovoltaïsche zonne-energie. In het bijzonder vereisen de susceptors die worden gebruikt bij de epitaxiale groei van LED's en Si-monokristal-epitaxie het gebruik van SiC-coating. Als gevolg van de sterke opwaartse trend van LED's in de verlichtings- en display-industrie, en de krachtige ontwikkeling van de halfgeleiderindustrie,SiC-coatingproductde vooruitzichten zijn zeer goed.
TOEPASSINGSGEBIED
Zuiverheid, SEM-structuur, dikteanalyse vanSiC-coating
De zuiverheid van SiC-coatings op grafiet met behulp van CVD is maar liefst 99,9995%. De structuur is fcc. De op grafiet gecoate SiC-films zijn (111) georiënteerd zoals weergegeven in de XRD-gegevens (Fig. 1), wat de hoge kristallijne kwaliteit ervan aangeeft. De dikte van de SiC-film is zeer uniform, zoals weergegeven in figuur 2.
Fig. 2: uniforme dikte van SiC-films SEM en XRD van bèta-SiC-film op grafiet
SEM-gegevens van CVD SiC dunne film, de kristalgrootte is 2 ~ 1 Opm
De kristalstructuur van de CVD SiC-film is een kubusvormige structuur met het gezicht in het midden en de oriëntatie van de filmgroei is bijna 100%
Siliciumcarbide (SiC) gecoatbasis is de beste basis voor monokristallijn silicium en GaN-epitaxie, de kerncomponent van de epitaxieoven. De basis is een belangrijk productieaccessoire voor monokristallijn silicium voor grote geïntegreerde schakelingen. Het heeft een hoge zuiverheid, hoge temperatuurbestendigheid, corrosieweerstand, goede luchtdichtheid en andere uitstekende materiaaleigenschappen.
Producttoepassing en gebruik
Grafietbasiscoating voor epitaxiale groei van monokristallijn silicium Geschikt voor Aixtron-machines, enz. Coatingdikte: 90 ~ 150um De diameter van de waferkrater is 55 mm.
Posttijd: 14 maart 2022