Het verkrijgen van klanttevredenheid is het doel van ons bedrijf zonder einde. We zullen geweldige initiatieven ondernemen om nieuwe oplossingen van topkwaliteit te verwerven, aan uw exclusieve specificaties te voldoen en u te voorzien van pre-sale, on-sale en after-sales leveranciers voor hete nieuwe producten, plasma-versterkte CVD-buisoven voor de afzetting van hoog- Kwaliteit harde films, welkom uw aanvraag, de allerbeste service zal met volledig hart worden verleend.
Het verkrijgen van klanttevredenheid is het doel van ons bedrijf zonder einde. We zullen geweldige initiatieven ondernemen om nieuwe oplossingen van topkwaliteit te verwerven, aan uw exclusieve specificaties te voldoen en u te voorzien van pre-sale, on-sale en after-sales leveranciers voorChina CVD-buisoven en CVD-buisoven chemische dampafzettingIn de steeds competitiever wordende markt, met oprechte service, hoogwaardige goederen en een welverdiende reputatie, geven we klanten altijd ondersteuning bij artikelen en technieken om een langdurige samenwerking te bereiken. Leven op basis van kwaliteit, ontwikkeling op krediet is ons eeuwige streven. Wij zijn ervan overtuigd dat we na uw bezoek langetermijnpartners zullen worden.
Koolstof/koolstofcomposieten(hierna te noemen “C/C of CFC”) is een soort composietmateriaal dat is gebaseerd op koolstof en versterkt door koolstofvezel en zijn producten (koolstofvezelvoorvorm). Het heeft zowel de traagheid van koolstof als de hoge sterkte van koolstofvezel. Het heeft goede mechanische eigenschappen, hittebestendigheid, corrosieweerstand, wrijvingsdemping en thermische en elektrische geleidbaarheidseigenschappen
CVD-SiCcoating heeft de kenmerken van een uniforme structuur, compact materiaal, hoge temperatuurbestendigheid, oxidatieweerstand, hoge zuiverheid, zuur- en alkalibestendigheid en organisch reagens, met stabiele fysische en chemische eigenschappen.
Vergeleken met hoogzuivere grafietmaterialen begint grafiet te oxideren bij 40°C, wat poederverlies als gevolg van oxidatie zal veroorzaken, resulterend in milieuvervuiling van randapparatuur en vacuümkamers, en de onzuiverheden van een hoogzuivere omgeving vergroten.
SiC-coating kan echter de fysische en chemische stabiliteit op 1600 graden behouden. Het wordt veel gebruikt in de moderne industrie, vooral in de halfgeleiderindustrie.
Ons bedrijf levert SiC-coatingprocesdiensten via CVD-methode op het oppervlak van grafiet, keramiek en andere materialen, zodat speciale gassen die koolstof en silicium bevatten bij hoge temperatuur reageren om SiC-moleculen met een hoge zuiverheid te verkrijgen, moleculen die worden afgezet op het oppervlak van de gecoate materialen. vormende SIC-beschermlaag. De gevormde SIC is stevig gebonden aan de grafietbasis, waardoor de grafietbasis speciale eigenschappen krijgt, waardoor het oppervlak van het grafiet compact, porositeitsvrij, bestand tegen hoge temperaturen, corrosieweerstand en oxidatieweerstand wordt.
Belangrijkste kenmerken:
1. Oxidatieweerstand op hoge temperatuur:
de oxidatieweerstand is nog steeds erg goed bij een temperatuur tot 1600 C.
2. Hoge zuiverheid: gemaakt door chemische dampafzetting onder chloreringsomstandigheden op hoge temperatuur.
3. Erosiebestendigheid: hoge hardheid, compact oppervlak, fijne deeltjes.
4. Corrosiebestendigheid: zuur, alkali, zout en organische reagentia.
Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coatings:
| SiC-CVD | ||
| Dikte | (g/cc)
| 3.21 |
| Buigsterkte | (Mpa)
| 470 |
| Thermische uitzetting | (10-6/K) | 4
|
| Thermische geleidbaarheid | (W/mK) | 300
|
