रासायनिक भाप डिपोजिसन (CVD) एक प्रक्रिया हो जसमा ग्यास मिश्रणको रासायनिक रासायनिक प्रतिक्रिया मार्फत सिलिकन वेफरको सतहमा ठोस चलचित्र लज गरिन्छ। यो प्रक्रिया विभिन्न रासायनिक प्रतिक्रिया अवस्था जस्तै दबाव र पूर्ववर्ती मा स्थापित मिश्रित उपकरण मोडेल विभाजन गर्न सकिन्छ।
यी दुई उपकरणहरू कुन प्रक्रियाको लागि प्रयोग गरिन्छ?PECVD (प्लाज्मा एन्हान्स्ड) उपकरणहरू ओएक्स, नाइट्राइड, धातु तत्व गेट, र अमोर्फस कार्बन जस्ता अनुप्रयोगहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। अर्कोतर्फ, LPCVD (लो पावर) सामान्यतया नाइट्राइड, पोली, र TEOS को लागि प्रयोग गरिन्छ।
सिद्धान्त के हो?PECVD टेक्नोलोजीले प्लाज्मा उर्जा र CVD लाई कम-तापमान प्लाज्मा शोषण गरेर प्रक्रिया कक्षको क्याथोडमा ताजापन उत्प्रेरित गर्दछ। यसले नमूना सतहमा ठोस चलचित्र बनाउन रासायनिक र प्लाज्मा रासायनिक प्रतिक्रियालाई नियन्त्रण गर्न दिन्छ। त्यसैगरी, LPCVD ले रिएक्टरमा रासायनिक प्रतिक्रिया ग्यासको चाप घटाउने गरी सञ्चालन गर्ने योजना छ।
मानवीकरण AI: CVD टेक्नोलोजीको क्षेत्रमा Humanize AI को प्रयोगले चलचित्र डिपोजिसन प्रक्रियाको दक्षता र शुद्धतालाई ठूलो मात्रामा बढाउन सक्छ। लिभरेज एआई एल्गोरिदमद्वारा, आयन प्यारामिटर, ग्यास प्रवाह दर, तापमान, र चलचित्र मोटाई जस्ता प्यारामिटरहरूको निगरानी र समायोजन राम्रो परिणामहरूको लागि अनुकूलन गर्न सकिन्छ।
पोस्ट समय: अक्टोबर-24-2024