केमिकल भाप डिपोजिसन (CVD) एक महत्त्वपूर्ण पातलो फिल्म डिपोजिसन टेक्नोलोजी हो, प्राय: विभिन्न कार्यात्मक फिल्महरू र पातलो-तह सामग्रीहरू तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ, र अर्धचालक निर्माण र अन्य क्षेत्रहरूमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ।
1. CVD को कार्य सिद्धान्त
CVD प्रक्रियामा, एक ग्यास पूर्ववर्ती (एक वा बढी ग्यास पूर्ववर्ती यौगिकहरू) सब्सट्रेट सतहसँग सम्पर्कमा ल्याइएको छ र एक निश्चित तापक्रममा तताइन्छ र रासायनिक प्रतिक्रिया र सब्सट्रेट सतहमा चाहिएको फिल्म वा कोटिंग बनाउनको लागि जम्मा हुन्छ। तह। यो रासायनिक प्रतिक्रिया को उत्पादन एक ठोस, सामान्यतया इच्छित सामग्री को एक यौगिक हो। यदि हामी सतहमा सिलिकन टाँस्न चाहन्छौं भने, हामीले ट्राइक्लोरोसिलेन (SiHCl3) लाई अग्रसर ग्यासको रूपमा प्रयोग गर्न सक्छौं: SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl सिलिकन कुनै पनि खुला सतह (आन्तरिक र बाह्य दुवै) मा बाँधिन्छ, जबकि क्लोरीन र हाइड्रोक्लोरिक एसिड ग्यासहरू चेम्बरबाट डिस्चार्ज हो।
2. CVD वर्गीकरण
थर्मल CVD: पूर्ववर्ती ग्यासलाई विघटन गर्न र सब्सट्रेट सतहमा जम्मा गर्न तताएर। प्लाज्मा एन्हान्स्ड CVD (PECVD): प्रतिक्रिया दर बढाउन र डिपोजिसन प्रक्रियालाई नियन्त्रण गर्न थर्मल CVD मा प्लाज्मा थपिन्छ। मेटल अर्गानिक CVD (MOCVD): धातुको जैविक यौगिकहरूलाई पूर्ववर्ती ग्यासको रूपमा प्रयोग गरेर, धातुहरू र अर्धचालकहरूको पातलो फिल्महरू तयार गर्न सकिन्छ, र प्रायः LEDs जस्ता यन्त्रहरूको निर्माणमा प्रयोग गरिन्छ।
3. आवेदन
(1) अर्धचालक निर्माण
सिलिसाइड फिल्म: इन्सुलेट तहहरू, सब्सट्रेटहरू, पृथक तहहरू, आदि तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ। नाइट्राइड फिल्म: सिलिकन नाइट्राइड, एल्युमिनियम नाइट्राइड, आदि तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ, एलईडी, पावर उपकरणहरू, आदिमा प्रयोग गरिन्छ। धातु फिल्म: प्रवाहकीय तहहरू तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ। तहहरू, आदि
(2) प्रदर्शन प्रविधि
ITO फिल्म: पारदर्शी प्रवाहकीय अक्साइड फिल्म, सामान्यतया फ्ल्याट प्यानल डिस्प्ले र टच स्क्रिनहरूमा प्रयोग गरिन्छ। कपर फिल्म: डिस्प्ले उपकरणहरूको प्रदर्शन सुधार गर्न प्याकेजिङ तहहरू, प्रवाहकीय रेखाहरू, आदि तयार गर्न प्रयोग गरिन्छ।
(3) अन्य क्षेत्रहरू
अप्टिकल कोटिंग्स: एन्टी-रिफ्लेक्टिभ कोटिंग्स, अप्टिकल फिल्टरहरू, इत्यादि सहित। एन्टी-क्रोसन कोटिंग: अटोमोटिभ पार्ट्स, एयरोस्पेस उपकरणहरू, आदिमा प्रयोग गरिन्छ।
4. CVD प्रक्रिया को विशेषताहरु
प्रतिक्रिया गति प्रवर्द्धन गर्न उच्च तापमान वातावरण प्रयोग गर्नुहोस्। सामान्यतया भ्याकुम वातावरणमा प्रदर्शन गरिन्छ। भागको सतहमा रहेका प्रदूषकहरू चित्रकारी गर्नु अघि हटाउनु पर्छ। प्रक्रियामा लेपित हुन सक्ने सब्सट्रेटहरूमा सीमितताहरू हुन सक्छन्, जस्तै तापक्रम सीमाहरू वा प्रतिक्रियाशीलता सीमाहरू। CVD कोटिंगले थ्रेडहरू, अन्धा प्वालहरू र आन्तरिक सतहहरू सहित भागका सबै क्षेत्रहरू कभर गर्नेछ। विशेष लक्षित क्षेत्रहरू मास्क गर्ने क्षमतालाई सीमित गर्न सक्छ। फिल्म मोटाई प्रक्रिया र भौतिक अवस्था द्वारा सीमित छ। उच्च आसंजन।
5. CVD प्रविधिका फाइदाहरू
एकरूपता: ठूलो क्षेत्र सब्सट्रेटहरूमा एकसमान जम्मा प्राप्त गर्न सक्षम।
कन्ट्रोलबिलिटी: डिपोजिसन दर र फिल्म गुणहरू पूर्ववर्ती ग्यासको प्रवाह दर र तापमान नियन्त्रण गरेर समायोजन गर्न सकिन्छ।
बहुमुखी प्रतिभा: धातु, अर्धचालक, अक्साइड, आदि जस्ता विभिन्न प्रकारका सामग्रीहरू जम्मा गर्नका लागि उपयुक्त।
पोस्ट समय: मे-०६-२०२४