Memperoleh kepuasan pembeli adalah tujuan syarikat kami tanpa henti. Kami akan membuat inisiatif hebat untuk memperoleh penyelesaian baharu dan berkualiti tinggi, memenuhi spesifikasi eksklusif anda dan menyediakan anda dengan pembekal pra-jualan, jualan dan selepas jualan untuk Produk Baru Panas Relau Tiub CVD Dipertingkat Plasma untuk Pemendapan Tinggi- Filem Keras Berkualiti, Mengalu-alukan pertanyaan anda, perkhidmatan terbaik akan diberikan dengan sepenuh hati.
Memperoleh kepuasan pembeli adalah tujuan syarikat kami tanpa henti. Kami akan membuat inisiatif hebat untuk memperoleh penyelesaian baharu dan berkualiti tinggi, memenuhi spesifikasi eksklusif anda dan memberikan anda pembekal pra-jualan, jualan dan selepas jualan untukRelau Tiub CVD China dan Pemendapan Wap Kimia Relau Tiub CVD, Dalam pasaran yang semakin kompetitif, Dengan perkhidmatan ikhlas barangan berkualiti tinggi dan reputasi yang layak, kami sentiasa memberi sokongan pelanggan pada item dan teknik untuk mencapai kerjasama jangka panjang. Hidup dengan kualiti, pembangunan melalui kredit adalah usaha kekal kami, Kami amat percaya bahawa selepas lawatan anda, kami akan menjadi rakan kongsi jangka panjang.
Karbon / komposit karbon(selepas ini dirujuk sebagai “C / C atau CFC”) ialah sejenis bahan komposit yang berasaskan karbon dan diperkukuh oleh gentian karbon dan produknya (preform gentian karbon). Ia mempunyai kedua-dua inersia karbon dan kekuatan tinggi gentian karbon. Ia mempunyai sifat mekanikal yang baik, rintangan haba, rintangan kakisan, redaman geseran dan ciri kekonduksian haba dan elektrik
CVD-SiCsalutan mempunyai ciri-ciri struktur seragam, bahan padat, rintangan suhu tinggi, rintangan pengoksidaan, ketulenan tinggi, rintangan asid&alkali dan reagen organik, dengan sifat fizikal dan kimia yang stabil.
Berbanding dengan bahan grafit ketulenan tinggi, grafit mula teroksida pada 400C, yang akan menyebabkan kehilangan serbuk akibat pengoksidaan, mengakibatkan pencemaran alam sekitar kepada peranti persisian dan ruang vakum, dan meningkatkan kekotoran persekitaran ketulenan tinggi.
Walau bagaimanapun, salutan SiC boleh mengekalkan kestabilan fizikal dan kimia pada 1600 darjah, Ia digunakan secara meluas dalam industri moden, terutamanya dalam industri semikonduktor.
Syarikat kami menyediakan perkhidmatan proses salutan SiC melalui kaedah CVD pada permukaan grafit, seramik dan bahan lain, supaya gas khas yang mengandungi karbon dan silikon bertindak balas pada suhu tinggi untuk mendapatkan molekul SiC ketulenan tinggi, molekul yang dimendapkan pada permukaan bahan bersalut, membentuk lapisan pelindung SIC. SIC yang terbentuk diikat dengan kuat pada asas grafit, memberikan sifat istimewa asas grafit, dengan itu menjadikan permukaan grafit padat, Bebas Poros, rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan dan rintangan pengoksidaan.
Ciri-ciri utama:
1. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi:
rintangan pengoksidaan masih sangat baik apabila suhu setinggi 1600 C.
2. Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
3. Rintangan hakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat, zarah halus.
4. Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC:
| SiC-CVD | ||
| Ketumpatan | (g/cc)
| 3.21 |
| Kekuatan lentur | (Mpa)
| 470 |
| Pengembangan terma | (10-6/K) | 4
|
| Kekonduksian terma | (W/mK) | 300
|
